光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)胶(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)按应(ying)用领域分(fen)(fen)类(lei)，可分(fen)(fen)为(wei)(wei) PCB 光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)胶(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)、显(xian)示(shi)面(mian)板(ban)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)胶(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)、半导体(ti)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)胶(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)及其他光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)胶(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)。全球(qiu)市(shi)场(chang)上不同(tong)种类(lei)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)胶(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)的(de)(de)市(shi)场(chang)结构较为(wei)(wei)均衡。智研咨询(xun)的(de)(de)数(shu)据还显(xian)示(shi)，受益于半导体(ti)、显(xian)示(shi)面(mian)板(ban)、PCB产(chan)业东移的(de)(de)趋(qu)势，自 2011年(nian)至今，光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)胶(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)中国本(ben)土(tu)供(gong)应(ying)规(gui)模年(nian)华增长率达到11%，高于全球(qiu)平均 5%的(de)(de)增速。2019年(nian)中国光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)胶(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)市(shi)场(chang)本(ben)土(tu)企业销售规(gui)模约70亿元，全球(qiu)占比约 10%，发展(zhan)空间巨大(da)。目(mu)前，中国本(ben)土(tu)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)胶(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)以PCB用光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)胶(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)为(wei)(wei)主，平板(ban)显(xian)示(shi)、半导体(ti)用光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)胶(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)供(gong)应(ying)量占比极低。有机(ji)-无机(ji)杂(za)化光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)胶(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)被认为(wei)(wei)是实现10nm以下(xia)工业化模式的(de)(de)理想材料(liao)。昆山(shan)i线光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)胶(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)致抗蚀(shi)剂(ji)

除了(le)枝状分(fen)(fen)子之外(wai)，环状单分(fen)(fen)子树(shu)脂近年(nian)来也得(de)到(dao)了(le)迅速发展。这些单分(fen)(fen)子树(shu)脂的(de)(de)(de)(de)(de)环状结(jie)(jie)构(gou)降低了(le)分(fen)(fen)子的(de)(de)(de)(de)(de)柔性(xing)，从而通(tong)常(chang)具(ju)有较高的(de)(de)(de)(de)(de)玻璃(li)化(hua)(hua)转变温度(du)和热化(hua)(hua)学(xue)稳定性(xing)。由(you)于(yu)构(gou)象较多，此类分(fen)(fen)子也难以结(jie)(jie)晶，往往具(ju)有很好的(de)(de)(de)(de)(de)成膜性(xing)。起初(chu)将(jiang)杯芳烃应(ying)用(yong)于(yu)光(guang)(guang)刻(ke)的(de)(de)(de)(de)(de)是东京科(ke)技(ji)大学(xue)的(de)(de)(de)(de)(de)Ueda课题组，2002年(nian)起，他们报道了(le)具(ju)有间(jian)苯二酚结(jie)(jie)构(gou)的(de)(de)(de)(de)(de)杯芳烃在365nm光(guang)(guang)刻(ke)中的(de)(de)(de)(de)(de)应(ying)用(yong)。2007年(nian)，瑞士光(guang)(guang)源的(de)(de)(de)(de)(de)Solak等利用(yong)对氯甲氧基杯芳烃获得(de)了(le)线(xian)宽12.5nm、占空(kong)比1∶1的(de)(de)(de)(de)(de)密集线(xian)条，但由(you)于(yu)为(wei)非化(hua)(hua)学(xue)放大光(guang)(guang)刻(ke)胶(jiao)(jiao)，曝光(guang)(guang)机理为(wei)分(fen)(fen)子结(jie)(jie)构(gou)被破(po)坏(huai)，灵敏度(du)较差，为(wei)PMMA的(de)(de)(de)(de)(de)1/5。江苏(su)光(guang)(guang)刻(ke)胶(jiao)(jiao)显示(shi)面板材(cai)料彩(cai)色(se)光(guang)(guang)刻(ke)胶(jiao)(jiao)及黑色(se)光(guang)(guang)刻(ke)胶(jiao)(jiao)市场也呈(cheng)现日韩企业(ye)主导的(de)(de)(de)(de)(de)格局，国内企业(ye)有雅克科(ke)技(ji)、飞凯(kai)材(cai)料、彤程新材(cai)等。

环状单分子(zi)(zi)树脂中除了杯(bei)芳烃类物质以外，还(hai)有(you)一类被称为“水(shui)车(che)”（Noria）的(de)光(guang)刻(ke)胶(jiao)，该类化合物由戊(wu)二醛和间苯(ben)二酚缩合而成，是(shi)一种中心空(kong)腔的(de)双层环梯状结构分子(zi)(zi)，外形(xing)像传统的(de)水(shui)车(che)，因此得名，起初(chu)在2006年时由日本(ben)神奈(nai)川大学的(de)Nishikubo课(ke)题(ti)组(zu)报道出来。随后，日本(ben)JSR公司的(de)Maruyama课(ke)题(ti)组(zu)将Noria改(gai)性，通(tong)过金(jin)刚烷基团保护(hu)得到了半(ban)周期(qi)为22nm的(de)光(guang)刻(ke)图(tu)形(xing)。但是(shi)这种光(guang)刻(ke)胶(jiao)的(de)灵(ling)敏度较低(di)、粗糙度较大，仍需进一步(bu)改(gai)进才能(neng)推(tui)广应用(yong)。

光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)胶(jiao)(jiao)主要由主体(ti)材(cai)(cai)料、光(guang)(guang)(guang)敏(min)材(cai)(cai)料、其他添加剂和(he)(he)溶(rong)(rong)剂组成。从化(hua)学材(cai)(cai)料角度来(lai)看，光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)胶(jiao)(jiao)内重要的(de)(de)(de)成分(fen)是主体(ti)材(cai)(cai)料和(he)(he)光(guang)(guang)(guang)敏(min)材(cai)(cai)料。光(guang)(guang)(guang)敏(min)材(cai)(cai)料在光(guang)(guang)(guang)照(zhao)下产生活性物种，促(cu)使(shi)主体(ti)材(cai)(cai)料结构改变，进而使(shi)光(guang)(guang)(guang)照(zhao)区域(yu)的(de)(de)(de)溶(rong)(rong)解(jie)度发生转(zhuan)变，经过显影和(he)(he)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)蚀，实现图形(xing)从掩(yan)模版(ban)到基底的(de)(de)(de)转(zhuan)移(yi)。对于(yu)某些光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)胶(jiao)(jiao)来(lai)说，主体(ti)材(cai)(cai)料本(ben)身也可以充(chong)当(dang)光(guang)(guang)(guang)敏(min)材(cai)(cai)料。依据(ju)主体(ti)材(cai)(cai)料的(de)(de)(de)不同(tong)，光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)胶(jiao)(jiao)可以分(fen)为基于(yu)聚合物的(de)(de)(de)高分(fen)子(zi)(zi)(zi)型光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)胶(jiao)(jiao)，基于(yu)小(xiao)分(fen)子(zi)(zi)(zi)的(de)(de)(de)单分(fen)子(zi)(zi)(zi)树脂(zhi)（分(fen)子(zi)(zi)(zi)玻璃）光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)胶(jiao)(jiao)，以及(ji)含有无机(ji)材(cai)(cai)料成分(fen)的(de)(de)(de)有机(ji)-无机(ji)杂化(hua)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)胶(jiao)(jiao)。本(ben)文将主要以不同(tong)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)胶(jiao)(jiao)的(de)(de)(de)主体(ti)材(cai)(cai)料设计来(lai)综(zong)述EUV光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)胶(jiao)(jiao)的(de)(de)(de)研发历史和(he)(he)现状。按曝光(guang)(guang)(guang)波长可分(fen)为紫(zi)外光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)胶(jiao)(jiao)、深紫(zi)外光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)胶(jiao)(jiao)、极(ji)紫(zi)外光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)胶(jiao)(jiao)、电子(zi)(zi)(zi)束(shu)(shu)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)胶(jiao)(jiao)、离子(zi)(zi)(zi)束(shu)(shu)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)胶(jiao)(jiao)、X射线光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)胶(jiao)(jiao)等。

从(cong)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)设备角度(du)(du)(du)(du)来(lai)看，EUV光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)与(yu)其他波长光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)关键(jian)的(de)(de)(de)(de)两点差异是(shi)(shi)光(guang)(guang)(guang)(guang)源强度(du)(du)(du)(du)和(he)散粒噪声(sheng)。尽管有多(duo)种方式(shi)可获得EUV光(guang)(guang)(guang)(guang)，商用(yong)(yong)EUV光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)机使用(yong)(yong)的(de)(de)(de)(de)是(shi)(shi)激(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)激(ji)发的(de)(de)(de)(de)等离子体（LPP）发光(guang)(guang)(guang)(guang)，其输(shu)出功率曾长期是(shi)(shi)制约(yue)EUV光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)技(ji)术(shu)商用(yong)(yong)的(de)(de)(de)(de)瓶颈(jing)问(wen)题；另外，EUV光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)使用(yong)(yong)的(de)(de)(de)(de)是(shi)(shi)反射镜(jing)成像系统，而(er)非传统的(de)(de)(de)(de)透过(guo)折(zhe)射镜(jing)片组，且效(xiao)率不高(gao)(gao)。因(yin)此在EUV光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)发展的(de)(de)(de)(de)早期，通常都(dou)要(yao)求EUV光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)胶具有较高(gao)(gao)的(de)(de)(de)(de)灵敏(min)度(du)(du)(du)(du)。同时，EUV光(guang)(guang)(guang)(guang)子能量(liang)(liang)(liang)（约(yue)为92eV）远高(gao)(gao)于(yu)(yu)以(yi)前几(ji)代(dai)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)技(ji)术(shu)光(guang)(guang)(guang)(guang)源的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)子能量(liang)(liang)(liang)（是(shi)(shi)193nm光(guang)(guang)(guang)(guang)子能量(liang)(liang)(liang)的(de)(de)(de)(de)14.4倍），也就(jiu)是(shi)(shi)说(shuo)，对于(yu)(yu)同样的(de)(de)(de)(de)曝光(guang)(guang)(guang)(guang)能量(liang)(liang)(liang)，光(guang)(guang)(guang)(guang)子数目远少于(yu)(yu)前几(ji)代(dai)的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)技(ji)术(shu)，这就(jiu)导致散粒噪声(sheng)增加，从(cong)而(er)造成线宽/线边缘粗糙(cao)度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)升(sheng)(sheng)高(gao)(gao)。而(er)灵敏(min)度(du)(du)(du)(du)过(guo)高(gao)(gao)并不利于(yu)(yu)克服散粒噪声(sheng)的(de)(de)(de)(de)影(ying)响，所以(yi)随着EUV光(guang)(guang)(guang)(guang)源功率不断提升(sheng)(sheng)，业(ye)界对EUV光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)胶的(de)(de)(de)(de)要(yao)求从(cong)“提高(gao)(gao)灵敏(min)度(du)(du)(du)(du)”逐(zhu)渐(jian)变为“利用(yong)(yong)一(yi)定程度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)灵敏(min)度(du)(du)(du)(du)来(lai)降(jiang)低粗糙(cao)度(du)(du)(du)(du)”。高(gao)(gao)壁垒和(he)高(gao)(gao)价值量(liang)(liang)(liang)是(shi)(shi)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)胶的(de)(de)(de)(de)典型特征。光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)胶属于(yu)(yu)技(ji)术(shu)和(he)资本密集(ji)型行业(ye)，全球供(gong)应市场高(gao)(gao)度(du)(du)(du)(du)集(ji)中。浙江(jiang)LCD触摸屏用(yong)(yong)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)胶集(ji)成电路材料

光刻胶(jiao)的(de)国产化(hua)公关(guan)正在(zai)展开，在(zai)面板屏显(xian)光刻胶(jiao)领域，中国已经出现了一批有竞(jing)争力的(de)本土企业。昆山i线(xian)光刻胶(jiao)光致(zhi)抗(kang)蚀剂

利(li)用(yong)基(ji)团(tuan)变(bian)化导致光刻(ke)胶(jiao)(jiao)(jiao)溶解性变(bian)差构(gou)建(jian)负性光刻(ke)胶(jiao)(jiao)(jiao)的(de)(de)(de)，还有日本日立公司的(de)(de)(de)Kojima等，他们与日本东京(jing)应化工业(ye)的(de)(de)(de)研(yan)发人员开发了(le)一种枝(zhi)状单分(fen)子(zi)树脂(zhi)分(fen)子(zi)3M6C-MBSA-BL。3M6C-MBSA-BL内(nei)(nei)(nei)含有γ-羟基(ji)羧(suo)酸(suan)基(ji)团(tuan)，在强酸(suan)的(de)(de)(de)作用(yong)下，可(ke)以发生(sheng)分(fen)子(zi)内(nei)(nei)(nei)脱水(shui)，由易溶于(yu)碱性显(xian)影液(ye)的(de)(de)(de)羧(suo)酸(suan)变(bian)为(wei)难(nan)溶于(yu)羧(suo)酸(suan)显(xian)影液(ye)的(de)(de)(de)内(nei)(nei)(nei)酯，因(yin)而可(ke)作为(wei)负胶(jiao)(jiao)(jiao)使用(yong)。Kojima等只检测了(le)其作为(wei)电子(zi)束光刻(ke)胶(jiao)(jiao)(jiao)的(de)(de)(de)性能，获得(de)了(le)40nm线宽(kuan)的(de)(de)(de)线条，呈现出较好(hao)的(de)(de)(de)抗(kang)刻(ke)蚀(shi)性，但它(ta)作为(wei)EUV光刻(ke)胶(jiao)(jiao)(jiao)的(de)(de)(de)能力(li)还有待验证。昆山i线光刻(ke)胶(jiao)(jiao)(jiao)光致抗(kang)蚀(shi)剂(ji)

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