【真(zhen)空镀膜产品常见不(bu)良分(fen)析(xi)及改善对(dui)(dui)策之(zhi)破(po)边、炸(zha)裂(lie)】： 一般的(de)(de)镀膜会(hui)对(dui)(dui)基片(pian)(pian)(pian)加(jia)热，由于基片(pian)(pian)(pian)是装(zhuang)架在(zai)金(jin)属(shu)圈(quan)(quan)(quan)、碟(die)(die)内，由于镜(jing)(jing)(jing)圈(quan)(quan)(quan)或(huo)(huo)碟(die)(die)片(pian)(pian)(pian)与(yu)镜(jing)(jing)(jing)片(pian)(pian)(pian)（基片(pian)(pian)(pian)）的(de)(de)热膨胀系数(shu)不(bu)一致(zhi)，冷(leng)却过程(cheng)中(zhong)会(hui)造(zao)(zao)成(cheng)镜(jing)(jing)(jing)片(pian)(pian)(pian)的(de)(de)破(po)便或(huo)(huo)炸(zha)裂(lie)。 有些(xie)大(da)镜(jing)(jing)(jing)片(pian)(pian)(pian)，由于出罩时的(de)(de)温度较(jiao)高(gao)，与(yu)室温的(de)(de)温差(cha)较(jiao)大(da)，镜(jing)(jing)(jing)片(pian)(pian)(pian)的(de)(de)热应力(li)作用(yong)造(zao)(zao)成(cheng)镜(jing)(jing)(jing)片(pian)(pian)(pian)炸(zha)裂(lie)或(huo)(huo)破(po)边。有些(xie)零件边缘倒边的(de)(de)形状容(rong)易造(zao)(zao)成(cheng)卡圈(quan)(quan)(quan)而破(po)边。 改善对(dui)(dui)策： 1. 夹(jia)(jia)具(ju)(ju)（镜(jing)(jing)(jing)圈(quan)(quan)(quan)、碟(die)(die)片(pian)(pian)(pian)）的(de)(de)设(she)(she)计，在(zai)尺寸配合上要(yao)合理(li)，充分(fen)考(kao)虑制(zhi)造(zao)(zao)误差(cha)带来的(de)(de)影响(xiang)。 2. 注(zhu)意镜(jing)(jing)(jing)圈(quan)(quan)(quan)、碟(die)(die)片(pian)(pian)(pian)的(de)(de)变形，已经变形的(de)(de)夹(jia)(jia)具(ju)(ju)不(bu)能(neng)使用(yong)。 3. 选用(yong)合适的(de)(de)夹(jia)(jia)具(ju)(ju)才来哦(e)（非导(dao)磁材料、不(bu)生锈(xiu)、耐高(gao)温不(bu)变性），不(bu)锈(xiu)钢较(jiao)为(wei)理(li)想（热变形系数(shu)小），就(jiu)是加(jia)工难度大(da)，价格(ge)贵。 4. 对(dui)(dui)于大(da)镜(jing)(jing)(jing)片(pian)(pian)(pian)应降低出罩时的(de)(de)温度，减少(shao)温差(cha)，防止炸(zha)裂(lie)。 5. 如(ru)果时镜(jing)(jing)(jing)圈(quan)(quan)(quan)，可以考(kao)虑在(zai)镜(jing)(jing)(jing)圈(quan)(quan)(quan)上开槽，作为(wei)缓冲。真(zhen)空镀膜设(she)(she)备升级改造(zao)(zao)。山西(xi)真(zhen)空镀膜设(she)(she)备代理(li)

【真(zhen)空镀(du)膜(mo)(mo)产品常(chang)见不良分析及改(gai)(gai)善(shan)对策(ce)之(zhi)划(hua)痕(hen)(hen)（膜(mo)(mo)伤(shang)(shang)）】： 划(hua)痕(hen)(hen)是指膜(mo)(mo)面内外有(you)道子，膜(mo)(mo)内的(de)(de)(de)称划(hua)痕(hen)(hen)，膜(mo)(mo)外的(de)(de)(de)称膜(mo)(mo)伤(shang)(shang)。这也(ye)是镀(du)膜(mo)(mo)品质(zhi)改(gai)(gai)善(shan)中的(de)(de)(de)一个顽症，虽然(ran)很清楚产生的(de)(de)(de)原因和(he)改(gai)(gai)善(shan)方法，但难以。 产生原因： 膜(mo)(mo)内划(hua)痕(hen)(hen)： 1. 前工(gong)程(cheng)(cheng)外观不良残(can)留。 2. 各操作(zuo)过(guo)(guo)程(cheng)(cheng)中的(de)(de)(de)作(zuo)业(ye)(ye)(ye)过(guo)(guo)水造(zao)(zao)成(cheng)(cheng)镜(jing)片(pian)划(hua)痕(hen)(hen) 3. 镜(jing)片(pian)摆放(fang)(fang)太密，搬(ban)运过(guo)(guo)程(cheng)(cheng)中造(zao)(zao)成(cheng)(cheng)互相(xiang)磕碰 4. 镜(jing)片(pian)的(de)(de)(de)摆放(fang)(fang)器具(ju)、包(bao)装材料造(zao)(zao)成(cheng)(cheng)镜(jing)片(pian)表面擦伤(shang)(shang) 5. 超(chao)声波清洗造(zao)(zao)成(cheng)(cheng)的(de)(de)(de)伤(shang)(shang)痕(hen)(hen) 膜(mo)(mo)外伤(shang)(shang)痕(hen)(hen)(膜(mo)(mo)伤(shang)(shang))： 1. 镜(jing)片(pian)的(de)(de)(de)摆放(fang)(fang)器具(ju)、包(bao)装材料造(zao)(zao)成(cheng)(cheng)的(de)(de)(de)膜(mo)(mo)伤(shang)(shang)。 2. 镀(du)后超(chao)声波清洗造(zao)(zao)成(cheng)(cheng)的(de)(de)(de)膜(mo)(mo)伤(shang)(shang)。 3. 各作(zuo)业(ye)(ye)(ye)过(guo)(guo)程(cheng)(cheng)作(zuo)业(ye)(ye)(ye)过(guo)(guo)失造(zao)(zao)成(cheng)(cheng)的(de)(de)(de)膜(mo)(mo)伤(shang)(shang)。 改(gai)(gai)善(shan)对策(ce)： 1. 强(qiang)化作(zuo)业(ye)(ye)(ye)员(yuan)(yuan)作(zuo)业(ye)(ye)(ye)规范 2. 订(ding)立作(zuo)业(ye)(ye)(ye)过(guo)(guo)失清单，监督作(zuo)业(ye)(ye)(ye)员(yuan)(yuan)避(bi)免作(zuo)业(ye)(ye)(ye)过(guo)(guo)失 3. 改(gai)(gai)善(shan)镜(jing)片(pian)摆放(fang)(fang)间隔 4. 改(gai)(gai)善(shan)镜(jing)片(pian)搬(ban)运方法 5. 改(gai)(gai)善(shan)摆放(fang)(fang)器具(ju)、包(bao)装材料 6. 改(gai)(gai)善(shan)超(chao)声波清洗工(gong)艺参数 7. 加强(qiang)前工(gong)程(cheng)(cheng)检验和(he)镀(du)前检查广东真(zhen)空镀(du)膜(mo)(mo)设备公(gong)司真(zhen)空镀(du)膜(mo)(mo)设备常(chang)见故障及解决方法。

【真空镀(du)(du)膜(mo)(mo)改(gai)善薄膜(mo)(mo)应(ying)力】： 1. 镀(du)(du)后(hou)烘烤，Zui后(hou)一(yi)层膜(mo)(mo)镀(du)(du)完后(hou)，烘烤不要马上停止，延续(xu)10分(fen)钟“回火”。让膜(mo)(mo)层结构趋于稳定。 2. 降温(wen)时间(jian)适当(dang)延长(zhang)，退火时效(xiao)。减(jian)少(shao)由于真空室(shi)内外温(wen)差过(guo)大(da)带来的(de)热(re)应(ying)力。 3. 对(dui)高(gao)反膜(mo)(mo)、滤(lv)光膜(mo)(mo)等在蒸镀(du)(du)过(guo)程(cheng)中，基(ji)片温(wen)度不宜过(guo)高(gao)，高(gao)温(wen)易产(chan)生热(re)应(ying)力。并且对(dui)氧(yang)(yang)化钛、氧(yang)(yang)化钽等膜(mo)(mo)料(liao)的(de)光学稳定性有负面影响。 4. 镀(du)(du)膜(mo)(mo)过(guo)程(cheng)离(li)子(zi)辅(fu)助，减(jian)少(shao)应(ying)力。 5. 选(xuan)择合适的(de)膜(mo)(mo)系匹配，第yi层膜(mo)(mo)料(liao)与(yu)基(ji)片匹配。 6. 适当(dang)减(jian)小(xiao)蒸发速率。 7. 对(dui)氧(yang)(yang)化物(wu)膜(mo)(mo)料(liao)全部充氧(yang)(yang)反应(ying)镀(du)(du)，根据不同膜(mo)(mo)料(liao)控制氧(yang)(yang)进(jin)气量。

【真空镀(du)膜(mo)(mo)(mo)改(gai)善基(ji)片与(yu)膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)结合】： 1. 加强(qiang)去(qu)油去(qu)污处(chu)理(li)，如(ru)是(shi)超声波清洗，重点(dian)考虑(lv)去(qu)油，若是(shi)手擦(ca)，考虑(lv)先用碳酸钙粉擦(ca)再清擦(ca)； 2. 加强(qiang)镀(du)前烘烤； 3. 有条件时，机组(zu)安(an)装冷凝及（POLYCOLD）； 4. 提高(gao)真空度； 5. 有条件时，机组(zu)安(an)装离子(zi)源； 6. 膜(mo)(mo)(mo)料的(de)(de)去(qu)潮； 7. 保持工作环境的(de)(de)干燥(zao)； 8. 对于多层(ceng)(ceng)膜(mo)(mo)(mo)，在膜(mo)(mo)(mo)系设计(ji)时，就要考虑(lv)第yi层(ceng)(ceng)膜(mo)(mo)(mo)与(yu)基(ji)片的(de)(de)匹配(pei)； 9. 采(cai)取研(yan)磨液复(fu)新去(qu)除镜片表(biao)面的(de)(de)腐(fu)蚀层(ceng)(ceng)； 10. 有时候适(shi)当降低蒸发速率对膜(mo)(mo)(mo)强(qiang)度的(de)(de)提高(gao)有帮助，对提高(gao)膜(mo)(mo)(mo)表(biao)面光滑度有积(ji)极意义。真空镀(du)膜(mo)(mo)(mo)设备哪个牌(pai)子(zi)的(de)(de)好？

【真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)镀(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)简(jian)介(jie)】： 真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)（vacuum）是一(yi)(yi)(yi)种(zhong)(zhong)没(mei)有(you)任何(he)物(wu)质的(de)空(kong)(kong)(kong)(kong)间(jian)状(zhuang)态，因为真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)之(zhi)中没(mei)有(you)介(jie)质，所以(yi)像声音这(zhei)种(zhong)(zhong)需要介(jie)质传(chuan)(chuan)递的(de)能量在真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)中是无(wu)法传(chuan)(chuan)播的(de)。1654年当时的(de)马德堡市zhang奥&托&格里克在今(jin)tian德国雷根(gen)斯堡进行了(le)一(yi)(yi)(yi)项实验，从而(er)证明了(le)真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)是存在的(de)。现在我们所说的(de)真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)并不是指空(kong)(kong)(kong)(kong)间(jian)内没(mei)有(you)任何(he)物(wu)质，而(er)是指在一(yi)(yi)(yi)个既定的(de)空(kong)(kong)(kong)(kong)间(jian)内低于一(yi)(yi)(yi)个大(da)气压的(de)气体状(zhuang)态，我们把这(zhei)种(zhong)(zhong)稀薄(bo)的(de)状(zhuang)态称为真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)。现在的(de)真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)镀(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)技(ji)(ji)(ji)术(shu)(shu)是在真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)中把金(jin)属、合金(jin)进行蒸发(fa)(fa)、溅射(she)使其沉积在目标(biao)物(wu)体上(shang)。 在当今(jin)电子(zi)行业(ye)，很多(duo)的(de)电子(zi)元器(qi)件都要使用真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)镀(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)工艺，虽然我国的(de)真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)镀(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)技(ji)(ji)(ji)术(shu)(shu)起步(bu)较晚，但发(fa)(fa)展(zhan)的(de)十分迅速。真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)镀(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)已经成为电子(zi)元器(qi)件制造的(de)一(yi)(yi)(yi)项不可或缺(que)的(de)技(ji)(ji)(ji)术(shu)(shu)。目前的(de)真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)镀(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)技(ji)(ji)(ji)术(shu)(shu)主要分为：真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)蒸镀(du)(du)、磁控溅射(she)镀(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)、离(li)子(zi)镀(du)(du)。关于真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)镀(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)机，你知道(dao)多(duo)少？山(shan)西真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)(kong)镀(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)设备代(dai)理

真空(kong)镀(du)膜设备使用时，需要注意哪些(xie)问(wen)题(ti)?山西真空(kong)镀(du)膜设备代(dai)理(li)

在真空镀(du)膜(mo)设(she)备(bei)中需(xu)要(yao)镀(du)膜(mo)的(de)被(bei)成(cheng)为基(ji)片，镀(du)的(de)材(cai)料被(bei)成(cheng)为靶(ba)(ba)材(cai)。基(ji)片与靶(ba)(ba)材(cai)同在真空腔中。蒸(zheng)发镀(du)膜(mo)一般是加热靶(ba)(ba)材(cai)使表(biao)面(mian)组分以原(yuan)子(zi)团(tuan)或离(li)子(zi)形(xing)式被(bei)蒸(zheng)发出(chu)来(lai)，并(bing)(bing)且沉(chen)降在基(ji)片表(biao)面(mian)，通过成(cheng)膜(mo)过程形(xing)成(cheng)薄(bo)膜(mo)。真空镀(du)膜(mo)机对于溅(jian)射类镀(du)膜(mo)，可以简单理解为利用(yong)电子(zi)或高能激(ji)光轰击靶(ba)(ba)材(cai)，并(bing)(bing)使表(biao)面(mian)组分以原(yuan)子(zi)团(tuan)或离(li)子(zi)形(xing)式被(bei)溅(jian)射出(chu)来(lai)，并(bing)(bing)且终沉(chen)积在基(ji)片表(biao)面(mian)，经历成(cheng)膜(mo)过程，终形(xing)成(cheng)薄(bo)膜(mo)。炉体可选择由不锈钢(gang)、碳钢(gang)或它们的(de)组合制成(cheng)的(de)双层水冷结构。山西真空镀(du)膜(mo)设(she)备(bei)代理

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