基(ji)于(yu)白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)涉(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)单(dan)峰(feng)值(zhi)波长移(yi)动的(de)(de)锗(zhe)(zhe)膜(mo)厚(hou)度(du)(du)(du)测量(liang)(liang)方(fang)案研(yan)(yan)究(jiu)：在(zai)对(dui)比研(yan)(yan)究(jiu)目前常(chang)用的(de)(de)白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)涉(she)测量(liang)(liang)方(fang)案的(de)(de)基(ji)础上，我(wo)们发现当两干(gan)(gan)(gan)涉(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)束的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)(cha)非常(chang)小导致(zhi)其干(gan)(gan)(gan)涉(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)只有一(yi)(yi)个(ge)干(gan)(gan)(gan)涉(she)峰(feng)时(shi)，常(chang)用的(de)(de)基(ji)于(yu)两相邻干(gan)(gan)(gan)涉(she)峰(feng)间(jian)距的(de)(de)解调方(fang)案不再适用。为此，我(wo)们提(ti)出了适用于(yu)极小光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)(cha)的(de)(de)基(ji)于(yu)干(gan)(gan)(gan)涉(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)单(dan)峰(feng)值(zhi)波长移(yi)动的(de)(de)测量(liang)(liang)方(fang)案。干(gan)(gan)(gan)涉(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)的(de)(de)峰(feng)值(zhi)波长会随着光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)(cha)的(de)(de)增大出现周期性的(de)(de)红(hong)移(yi)和蓝移(yi)，当光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)(cha)在(zai)较小范(fan)围内变化时(shi)，峰(feng)值(zhi)波长的(de)(de)移(yi)动与(yu)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)(cha)成正比。根据这(zhei)一(yi)(yi)原(yuan)理，搭建了光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)纤(xian)白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)涉(she)温度(du)(du)(du)传感(gan)系统对(dui)这(zhei)一(yi)(yi)测量(liang)(liang)解调方(fang)案进(jin)行验(yan)证，得(de)到了光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)纤(xian)端面(mian)半导体锗(zhe)(zhe)薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)的(de)(de)厚(hou)度(du)(du)(du)。实验(yan)结(jie)果显(xian)示锗(zhe)(zhe)膜(mo)的(de)(de)厚(hou)度(du)(du)(du)为，与(yu)台阶仪测量(liang)(liang)结(jie)果存在(zai)，这(zhei)是因为薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)表(biao)面(mian)本(ben)身并不光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)滑，台阶仪的(de)(de)测量(liang)(liang)结(jie)果只能作为参考值(zhi)。锗(zhe)(zhe)膜(mo)厚(hou)度(du)(du)(du)测量(liang)(liang)误(wu)差(cha)(cha)主要(yao)来自光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源的(de)(de)波长漂移(yi)和温度(du)(du)(du)控制误(wu)差(cha)(cha)。白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)涉(she)膜(mo)厚(hou)测量(liang)(liang)技术可以实现对(dui)薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)的(de)(de)在(zai)线检测和控制。高(gao)精度(du)(du)(du)膜(mo)厚(hou)仪销售价格(ge)

开展白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干涉理(li)论分析，在此基础详细(xi)介绍(shao)了(le)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)垂(chui)直(zhi)扫描干涉技术(shu)(shu)(shu)和白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)反射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)技术(shu)(shu)(shu)的基本(ben)原理(li)，完成(cheng)了(le)应用于靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)壳层折射(she)(she)率和厚度(du)分布测(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)实验(yan)(yan)装(zhuang)置(zhi)(zhi)的设计及搭建。该(gai)(gai)实验(yan)(yan)装(zhuang)置(zhi)(zhi)主要由白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)反射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)探测(ce)(ce)模(mo)块、靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)吸附转位(wei)(wei)模(mo)块、三维运动模(mo)块、气浮隔(ge)震平(ping)台(tai)等几(ji)部分组成(cheng)，可实现(xian)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)的负压吸附、靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)位(wei)(wei)置(zhi)(zhi)的精(jing)密调整(zheng)以(yi)及靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)360°范围的旋转及特定角度(du)下(xia)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)壳层白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)反射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)的测(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)。基于白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)垂(chui)直(zhi)扫描干涉和白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)反射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)的基本(ben)原理(li),建立了(le)二(er)者(zhe)联用的靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)壳层折射(she)(she)率测(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)方法，该(gai)(gai)方法利用白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)反射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)测(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)壳层光(guang)(guang)(guang)(guang)学厚度(du)，利用白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)垂(chui)直(zhi)扫描干涉技术(shu)(shu)(shu)测(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)光(guang)(guang)(guang)(guang)线通过靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)壳层后的光(guang)(guang)(guang)(guang)程增量(liang)(liang)(liang)，二(er)者(zhe)联立即可求(qiu)得靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)折射(she)(she)率和厚度(du)数(shu)据。湖南(nan)防水膜(mo)厚仪白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干涉膜(mo)厚测(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)技术(shu)(shu)(shu)可以(yi)实现(xian)对薄膜(mo)的快速(su)测(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)和分析。

确定(ding)靶丸折(zhe)射(she)(she)率(lv)及厚(hou)(hou)度(du)的(de)(de)(de)算(suan)法(fa)，由于(yu)(yu)干涉光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)信(xin)号与膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)参量直接相关(guan)，这(zhei)里主(zhu)要(yao)(yao)(yao)考虑光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)分析(xi)(xi)(xi)的(de)(de)(de)方(fang)法(fa)根(gen)据(ju)(ju)测量膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)反射(she)(she)或透(tou)射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)进行分析(xi)(xi)(xi)计(ji)算(suan)，可(ke)(ke)(ke)获(huo)得(de)(de)膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)厚(hou)(hou)度(du)、折(zhe)射(she)(she)率(lv)等参数。根(gen)据(ju)(ju)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)信(xin)号分析(xi)(xi)(xi)计(ji)算(suan)膜(mo)(mo)折(zhe)射(she)(she)率(lv)及厚(hou)(hou)度(du)的(de)(de)(de)方(fang)法(fa)主(zhu)要(yao)(yao)(yao)有(you)极(ji)值(zhi)法(fa)和包络法(fa)、全光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)拟合(he)法(fa)。极(ji)值(zhi)法(fa)测量膜(mo)(mo)厚(hou)(hou)度(du)主(zhu)要(yao)(yao)(yao)是根(gen)据(ju)(ju)薄膜(mo)(mo)反射(she)(she)或透(tou)射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)曲线上(shang)(shang)的(de)(de)(de)波(bo)峰的(de)(de)(de)位(wei)置来计(ji)算(suan)，对于(yu)(yu)弱色散介质，折(zhe)射(she)(she)率(lv)为恒定(ding)值(zhi)，根(gen)据(ju)(ju)两个或两个以上(shang)(shang)的(de)(de)(de)极(ji)大(da)值(zhi)点(dian)的(de)(de)(de)位(wei)置，求(qiu)(qiu)得(de)(de)膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)学(xue)厚(hou)(hou)度(du)，若已(yi)知膜(mo)(mo)折(zhe)射(she)(she)率(lv)即可(ke)(ke)(ke)求(qiu)(qiu)解(jie)膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)厚(hou)(hou)度(du)；对于(yu)(yu)强色散介质，首先利(li)用(yong)极(ji)值(zhi)点(dian)求(qiu)(qiu)出膜(mo)(mo)厚(hou)(hou)度(du)的(de)(de)(de)初始值(zhi)。薄膜(mo)(mo)厚(hou)(hou)度(du)是一恒定(ding)不变值(zhi)，可(ke)(ke)(ke)根(gen)据(ju)(ju)极(ji)大(da)值(zhi)点(dian)位(wei)置的(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)学(xue)厚(hou)(hou)度(du)关(guan)系式获(huo)得(de)(de)入射(she)(she)波(bo)长和折(zhe)射(she)(she)率(lv)的(de)(de)(de)对应(ying)关(guan)系，再依据(ju)(ju)薄膜(mo)(mo)材(cai)质的(de)(de)(de)色散特性，引(yin)入合(he)适的(de)(de)(de)色散模(mo)型(xing)(xing)，常用(yong)的(de)(de)(de)色散模(mo)型(xing)(xing)有(you)cauchy模(mo)型(xing)(xing)、Selimeier模(mo)型(xing)(xing)、Lorenz模(mo)型(xing)(xing)等，利(li)用(yong)折(zhe)射(she)(she)率(lv)与入射(she)(she)波(bo)长的(de)(de)(de)关(guan)系式，通过二乘(cheng)法(fa)拟合(he)得(de)(de)到色散模(mo)型(xing)(xing)的(de)(de)(de)系数，即可(ke)(ke)(ke)解(jie)得(de)(de)任(ren)意入射(she)(she)波(bo)长下的(de)(de)(de)折(zhe)射(she)(she)率(lv)。

目(mu)前，应用的(de)(de)显(xian)(xian)微(wei)干涉(she)(she)方(fang)式主要有Mirau显(xian)(xian)微(wei)干涉(she)(she)和(he)(he)Michelson显(xian)(xian)微(wei)干涉(she)(she)两(liang)(liang)张方(fang)式。如图2-5(a)所示Mirau型显(xian)(xian)微(wei)干涉(she)(she)结构，在(zai)该(gai)结构中(zhong)物镜(jing)(jing)和(he)(he)被(bei)测样(yang)品之(zhi)间(jian)有两(liang)(liang)块平(ping)板(ban)，一(yi)(yi)个(ge)是涂(tu)覆(fu)有高反射膜的(de)(de)平(ping)板(ban)作为(wei)参(can)(can)考(kao)镜(jing)(jing)，另一(yi)(yi)块涂(tu)覆(fu)半透半反射膜的(de)(de)平(ping)板(ban)作为(wei)分(fen)光(guang)棱镜(jing)(jing)，由(you)于(yu)(yu)参(can)(can)考(kao)镜(jing)(jing)位于(yu)(yu)物镜(jing)(jing)和(he)(he)被(bei)测样(yang)品之(zhi)间(jian)，从而(er)使物镜(jing)(jing)外(wai)壳更加(jia)紧凑(cou)，工作距(ju)离相(xiang)对(dui)而(er)言短(duan)一(yi)(yi)些，其(qi)倍率(lv)一(yi)(yi)般为(wei)10-50倍，Mirau显(xian)(xian)微(wei)干涉(she)(she)物镜(jing)(jing)参(can)(can)考(kao)端使用与测量端相(xiang)同显(xian)(xian)微(wei)物镜(jing)(jing)，因此没有额外(wai)的(de)(de)光(guang)程差。白光(guang)干涉(she)(she)膜厚测量技(ji)术可以应用于(yu)(yu)半导体(ti)制造中(zhong)的(de)(de)薄膜厚度控(kong)制。

干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)法(fa)(fa)作为(wei)面扫(sao)描(miao)方(fang)式可(ke)(ke)以一次性对(dui)薄膜(mo)局域内(nei)的(de)(de)厚(hou)(hou)度进行解算，适用于对(dui)面型整体形貌特征要求较(jiao)高(gao)的(de)(de)测(ce)(ce)量对(dui)象。干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)法(fa)(fa)算法(fa)(fa)在于相位(wei)信息的(de)(de)提取，借助多种复合算法(fa)(fa)通(tong)常可(ke)(ke)以达到纳米(mi)级的(de)(de)测(ce)(ce)量准确度。然(ran)而主动干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)法(fa)(fa)对(dui)条纹稳(wen)定性不佳，光学元件(jian)表面的(de)(de)不清洁(jie)、光照度不均匀、光源不稳(wen)定、外界气流震(zhen)动干(gan)(gan)(gan)扰等(deng)因素均可(ke)(ke)能影(ying)响干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)图(tu)的(de)(de)完整性[39]，使(shi)干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)图(tu)样中包含噪(zao)声和部分区域的(de)(de)阴影(ying)，给(ji)后期处理带来困难。除(chu)此(ci)之外，干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)法(fa)(fa)系统精(jing)度的(de)(de)来源——精(jing)密移(yi)动及定位(wei)部件(jian)也增加了系统的(de)(de)成本，高(gao)精(jing)度的(de)(de)干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)仪往往较(jiao)为(wei)昂贵。白(bai)光干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)膜(mo)厚(hou)(hou)测(ce)(ce)量技术可(ke)(ke)以对(dui)薄膜(mo)的(de)(de)厚(hou)(hou)度、反射率、折射率等(deng)光学参数进行测(ce)(ce)量。有哪些膜(mo)厚(hou)(hou)仪大概价格多少

白(bai)光干(gan)涉膜(mo)厚测(ce)量(liang)技术(shu)可以通过(guo)对干(gan)涉曲线的(de)分析实现对薄(bo)膜(mo)的(de)厚度测(ce)量(liang)。高精度膜(mo)厚仪(yi)销售价格(ge)

干(gan)涉(she)(she)(she)法与(yu)(yu)分光(guang)光(guang)度法都是利用相(xiang)干(gan)光(guang)形(xing)成等厚(hou)干(gan)涉(she)(she)(she)条(tiao)纹的(de)原理来确定(ding)薄(bo)膜厚(hou)度和(he)折射率，然而(er)与(yu)(yu)薄(bo)膜自发产(chan)生(sheng)的(de)等倾干(gan)涉(she)(she)(she)不同(tong)，干(gan)涉(she)(she)(she)法是通过设(she)置参考光(guang)路，形(xing)成与(yu)(yu)测(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)光(guang)路间(jian)的(de)干(gan)涉(she)(she)(she)条(tiao)纹，因(yin)此其相(xiang)位(wei)信(xin)息包含两个(ge)部分，分别是由参考平面(mian)和(he)测(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)平面(mian)间(jian)扫描(miao)高度引起(qi)的(de)附加相(xiang)位(wei)和(he)由透明薄(bo)膜内部多次(ci)反射引起(qi)的(de)膜厚(hou)相(xiang)位(wei)。干(gan)涉(she)(she)(she)法测(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)光(guang)路使(shi)用面(mian)阵CCD接(jie)收参考平面(mian)和(he)测(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)平面(mian)间(jian)相(xiang)干(gan)波面(mian)的(de)干(gan)涉(she)(she)(she)光(guang)强分布，不同(tong)于以上三种(zhong)点测(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)方式(shi)，可一次(ci)性生(sheng)成薄(bo)膜待测(ce)(ce)(ce)区域的(de)表面(mian)形(xing)貌信(xin)息，但同(tong)时由于存在(zai)大量(liang)(liang)(liang)(liang)轴向扫描(miao)和(he)数据解算，完成单次(ci)测(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)的(de)时间(jian)相(xiang)对(dui)较长。高精度膜厚(hou)仪(yi)销售价格

本(ben)文来自海润达(da)物联(lian)科技有限责任(ren)公司(si)：//qfd1mz.cn/Article/78c0899913.html