【离(li)(li)(li)(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)镀(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)历(li)史】： 真空离(li)(li)(li)(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)镀(du)(du)(du)(du)(du)膜(mo)技(ji)术是近几十年才发(fa)(fa)展(zhan)起(qi)来(lai)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)一种新的(de)(de)(de)(de)(de)(de)镀(du)(du)(du)(du)(du)膜(mo)技(ji)术。在(zai)(zai)离(li)(li)(li)(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)镀(du)(du)(du)(du)(du)技(ji)术兴起(qi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)40多年来(lai)取得(de)了巨(ju)大的(de)(de)(de)(de)(de)(de)进步，我国也有将近30多年的(de)(de)(de)(de)(de)(de)离(li)(li)(li)(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)镀(du)(du)(du)(du)(du)研究进程。 【离(li)(li)(li)(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)镀(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)原理】： 蒸(zheng)(zheng)(zheng)发(fa)(fa)物质的(de)(de)(de)(de)(de)(de)分(fen)子(zi)(zi)(zi)(zi)被电(dian)(dian)(dian)子(zi)(zi)(zi)(zi)撞击后(hou)沉积在(zai)(zai)固(gu)体(ti)表(biao)(biao)面(mian)(mian)称(cheng)为(wei)离(li)(li)(li)(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)镀(du)(du)(du)(du)(du)。蒸(zheng)(zheng)(zheng)发(fa)(fa)源(yuan)接阳极(ji)，工(gong)(gong)(gong)(gong)件(jian)(jian)(jian)(jian)接阴(yin)(yin)极(ji)，当(dang)通以三至(zhi)五(wu)千伏高压直流电(dian)(dian)(dian)以后(hou)，蒸(zheng)(zheng)(zheng)发(fa)(fa)源(yuan)与(yu)工(gong)(gong)(gong)(gong)件(jian)(jian)(jian)(jian)之间产生辉光(guang)放(fang)电(dian)(dian)(dian)。由于(yu) 真空罩内充(chong)有惰(duo)性(xing)(xing)氩(ya)气(qi)，在(zai)(zai)放(fang)电(dian)(dian)(dian)电(dian)(dian)(dian)场作用(yong)下部分(fen)氩(ya)气(qi)被电(dian)(dian)(dian)离(li)(li)(li)(li)(li)(li)(li)，从(cong)而(er)在(zai)(zai)阴(yin)(yin)极(ji)工(gong)(gong)(gong)(gong)件(jian)(jian)(jian)(jian)周围(wei)形(xing)成(cheng)一等离(li)(li)(li)(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)暗区(qu)。带正电(dian)(dian)(dian)荷(he)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)氩(ya)离(li)(li)(li)(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)受阴(yin)(yin)极(ji)负高压的(de)(de)(de)(de)(de)(de)吸引，猛烈地轰(hong)(hong)击工(gong)(gong)(gong)(gong)件(jian)(jian)(jian)(jian)表(biao)(biao) 面(mian)(mian)，致使工(gong)(gong)(gong)(gong)件(jian)(jian)(jian)(jian)表(biao)(biao)层(ceng)(ceng)粒(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)和脏(zang)物被轰(hong)(hong)溅抛出，从(cong)而(er)使工(gong)(gong)(gong)(gong)件(jian)(jian)(jian)(jian)待镀(du)(du)(du)(du)(du)表(biao)(biao)面(mian)(mian)得(de)到了充(chong)分(fen)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)离(li)(li)(li)(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)轰(hong)(hong)击清(qing)洗(xi)。随(sui)后(hou)，接通蒸(zheng)(zheng)(zheng)发(fa)(fa)源(yuan)交流电(dian)(dian)(dian)源(yuan)，蒸(zheng)(zheng)(zheng)发(fa)(fa)料(liao)粒(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)熔(rong)化蒸(zheng)(zheng)(zheng)发(fa)(fa)，进入辉光(guang)放(fang)电(dian)(dian)(dian)区(qu)并 被电(dian)(dian)(dian)离(li)(li)(li)(li)(li)(li)(li)。带正电(dian)(dian)(dian)荷(he)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)蒸(zheng)(zheng)(zheng)发(fa)(fa)料(liao)离(li)(li)(li)(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)，在(zai)(zai)阴(yin)(yin)极(ji)吸引下，随(sui)同(tong)氩(ya)离(li)(li)(li)(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)一同(tong)冲(chong)向工(gong)(gong)(gong)(gong)件(jian)(jian)(jian)(jian)，当(dang)抛镀(du)(du)(du)(du)(du)于(yu)工(gong)(gong)(gong)(gong)件(jian)(jian)(jian)(jian)表(biao)(biao)面(mian)(mian)上的(de)(de)(de)(de)(de)(de)蒸(zheng)(zheng)(zheng)发(fa)(fa)料(liao)离(li)(li)(li)(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)超过溅失离(li)(li)(li)(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)数量时，则逐渐堆积形(xing)成(cheng)一层(ceng)(ceng)牢固(gu)粘 附于(yu)工(gong)(gong)(gong)(gong)件(jian)(jian)(jian)(jian)表(biao)(biao)面(mian)(mian)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)镀(du)(du)(du)(du)(du)层(ceng)(ceng)。 【离(li)(li)(li)(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)镀(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)优缺(que)点】： 优点：膜(mo)层(ceng)(ceng)附着力(li)好，膜(mo)层(ceng)(ceng)致密，具有绕度性(xing)(xing)能(neng)，能(neng)在(zai)(zai)形(xing)状复杂的(de)(de)(de)(de)(de)(de)零件(jian)(jian)(jian)(jian)表(biao)(biao)面(mian)(mian)镀(du)(du)(du)(du)(du)膜(mo)。 缺(que)点：离(li)(li)(li)(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)镀(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)应用(yong)范(fan)围(wei)不(bu)广；膜(mo)与(yu)基体(ti)间存在(zai)(zai)较宽(kuan)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)过渡界(jie)面(mian)(mian)。会(hui)有气(qi)体(ti)分(fen)子(zi)(zi)(zi)(zi)吸附。真空镀(du)(du)(du)(du)(du)膜(mo)设备(bei)技(ji)术教程。中国台湾(wan)真空镀(du)(du)(du)(du)(du)膜(mo)设备(bei)公司

【真(zhen)空镀(du)(du)(du)(du)膜(mo)设(she)(she)(she)备(bei)(bei)(bei)(bei)(bei)的(de)(de)分类】：这(zhei)个(ge)问题如(ru)果在十年之前，其(qi)实(shi)是很容易(yi)回(hui)答(da)的(de)(de)，就(jiu)是两个(ge)大(da)类，物(wu)理沉(chen)(chen)(chen)积(ji)设(she)(she)(she)备(bei)(bei)(bei)(bei)(bei)和化学沉(chen)(chen)(chen)积(ji)设(she)(she)(she)备(bei)(bei)(bei)(bei)(bei)。现在这(zhei)样(yang)回(hui)答(da)也是没(mei)错的(de)(de)，但现在再(zai)这(zhei)样(yang)回(hui)答(da)就(jiu)没(mei)办法把事(shi)情说清楚(chu)了，所以从应(ying)用(yong)领域上可以分成(cheng)以下几类：传统(tong)光(guang)学器件（镜(jing)片，滤光(guang)片）所用(yong)的(de)(de)镀(du)(du)(du)(du)膜(mo)设(she)(she)(she)备(bei)(bei)(bei)(bei)(bei)：单腔体(ti)或(huo)多(duo)腔体(ti)蒸(zheng)(zheng)发(fa)(fa)式镀(du)(du)(du)(du)膜(mo)设(she)(she)(she)备(bei)(bei)(bei)(bei)(bei)，溅(jian)(jian)射式镀(du)(du)(du)(du)膜(mo)设(she)(she)(she)备(bei)(bei)(bei)(bei)(bei)。新材料(liao)领域的(de)(de)柔(rou)性(xing)设(she)(she)(she)备(bei)(bei)(bei)(bei)(bei)：卷(juan)对卷(juan)柔(rou)性(xing)镀(du)(du)(du)(du)膜(mo)设(she)(she)(she)备(bei)(bei)(bei)(bei)(bei)。光(guang)通讯行业(ye)：离子(zi)(zi)束溅(jian)(jian)射镀(du)(du)(du)(du)膜(mo)设(she)(she)(she)备(bei)(bei)(bei)(bei)(bei)。半导体(ti)及相似工(gong)艺(yi)：化学气相沉(chen)(chen)(chen)积(ji)设(she)(she)(she)备(bei)(bei)(bei)(bei)(bei)。功能膜(mo)：多(duo)弧离子(zi)(zi)镀(du)(du)(du)(du)设(she)(she)(she)备(bei)(bei)(bei)(bei)(bei)，溅(jian)(jian)射设(she)(she)(she)备(bei)(bei)(bei)(bei)(bei)，蒸(zheng)(zheng)发(fa)(fa)设(she)(she)(she)备(bei)(bei)(bei)(bei)(bei)玻璃工(gong)艺(yi)：溅(jian)(jian)射式连续线其(qi)余的(de)(de)就(jiu)得归到(dao)“工(gong)艺(yi)定制设(she)(she)(she)备(bei)(bei)(bei)(bei)(bei)”这(zhei)个(ge)范围里面了，例(li)如(ru)车灯镀(du)(du)(du)(du)膜(mo)设(she)(she)(she)备(bei)(bei)(bei)(bei)(bei)，太阳(yang)能的(de)(de)共蒸(zheng)(zheng)发(fa)(fa)设(she)(she)(she)备(bei)(bei)(bei)(bei)(bei)，光(guang)纤(xian)镀(du)(du)(du)(du)膜(mo)设(she)(she)(she)备(bei)(bei)(bei)(bei)(bei)，太阳(yang)能管设(she)(she)(she)备(bei)(bei)(bei)(bei)(bei)等等陕西真(zhen)空镀(du)(du)(du)(du)膜(mo)设(she)(she)(she)备(bei)(bei)(bei)(bei)(bei)的(de)(de)使用(yong)方法真(zhen)空镀(du)(du)(du)(du)膜(mo)设(she)(she)(she)备(bei)(bei)(bei)(bei)(bei)的(de)(de)主要(yao)应(ying)用(yong)。

【离子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)镀(du)(du)膜法之(zhi)射(she)频离子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)镀(du)(du)】： 射(she)频离子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)镀(du)(du)(RFIP):利用电(dian)(dian)阻或(huo)电(dian)(dian)子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)束加热使膜材气化(hua)；依靠射(she)频等(deng)离子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)体(ti)(ti)放(fang)电(dian)(dian)使充入的(de)真空Ar及其它惰性气体(ti)(ti)、反应(ying)气体(ti)(ti)氧气、氮气、乙(yi)炔等(deng)离化(hua)。这(zhei)种方法的(de)特点是：基板(ban)温升小，不(bu)纯气体(ti)(ti)少，成膜好，适(shi)合(he)镀(du)(du)化(hua)合(he)物膜，但匹配(pei)较(jiao)困难。可应(ying)用于镀(du)(du)光学器(qi)件(jian)、半(ban)导体(ti)(ti)器(qi)件(jian)、装饰(shi)品(pin)、汽(qi)车(che)零件(jian)等(deng)。射(she)频离子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)镀(du)(du)膜设(she)备对(dui)周遭环境没(mei)有(you)(you)不(bu)利影响，符(fu)合(he)现代绿色(se)制造的(de)工业发展(zhan)方向。目前(qian)，该(gai)类型设(she)备已经guang泛用在(zai)硬质合(he)金(jin)立铣(xian)刀(dao)、可转(zhuan)位铣(xian)刀(dao)、焊接工具(ju)(ju)、阶梯钻、钻头、铰刀(dao)、油孔钻、车(che)刀(dao)、异(yi)型刀(dao)具(ju)(ju)、丝锥等(deng)工具(ju)(ju)的(de)镀(du)(du)膜处理上(shang)。 此外，离子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)镀(du)(du)法还包(bao)括有(you)(you)低压等(deng)离子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)体(ti)(ti)离子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)镀(du)(du)，感应(ying)离子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)加热镀(du)(du)，集团离子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)束镀(du)(du)和多弧离子(zi)(zi)(zi)(zi)(zi)镀(du)(du)等(deng)多种方法。

、根据自己的(de)(de)产(chan)品定(ding)位来(lai)选择镀(du)膜(mo)机厂家的(de)(de)等级。如果产(chan)品定(ding)位是(shi)市场，那(nei)就要对(dui)应选择中的(de)(de)设(she)备(bei)(bei)，如果不(bu)是(shi)那(nei)就选择中端或者(zhe)低(di)端即可(ke)。第(di)二(er)、中的(de)(de)镀(du)膜(mo)机设(she)备(bei)(bei)稳(wen)定(ding)性一(yi)(yi)定(ding)要好，且要保证配件(jian)的(de)(de)可(ke)靠(kao)性。因为(wei)真(zhen)空镀(du)膜(mo)机本(ben)身就是(shi)一(yi)(yi)个(ge)(ge)比较复杂(za)的(de)(de)系统(tong)，包(bao)括真(zhen)空、自动化等多个(ge)(ge)系统(tong)，任何一(yi)(yi)个(ge)(ge)系统(tong)的(de)(de)部件(jian)不(bu)可(ke)靠(kao)都会直接影响着(zhe)整个(ge)(ge)机器运行的(de)(de)稳(wen)定(ding)性和可(ke)靠(kao)性，从而给生产(chan)带来(lai)不(bu)便(bian)。第(di)三、可(ke)以观察一(yi)(yi)下同行业或者(zhe)一(yi)(yi)些的(de)(de)公司都在使用哪家的(de)(de)真(zhen)空镀(du)膜(mo)机，这也是(shi)减(jian)小风险的(de)(de)一(yi)(yi)种有效方(fang)式。真(zhen)空镀(du)膜(mo)设(she)备(bei)(bei)的(de)(de)工作原理和构成。

【真(zhen)空镀(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)改善(shan)薄膜(mo)(mo)(mo)应(ying)力(li)】： 1. 镀(du)(du)后烘烤，Zui后一层(ceng)膜(mo)(mo)(mo)镀(du)(du)完后，烘烤不要(yao)马(ma)上停(ting)止(zhi)，延续10分钟“回火(huo)”。让膜(mo)(mo)(mo)层(ceng)结构趋于稳(wen)定。 2. 降温时(shi)间适当延长，退火(huo)时(shi)效。减少(shao)由于真(zhen)空室内外温差过(guo)大带(dai)来(lai)的热应(ying)力(li)。 3. 对高反膜(mo)(mo)(mo)、滤(lv)光膜(mo)(mo)(mo)等(deng)在蒸镀(du)(du)过(guo)程(cheng)中，基片温度不宜过(guo)高，高温易产生热应(ying)力(li)。并且对氧(yang)化(hua)钛、氧(yang)化(hua)钽等(deng)膜(mo)(mo)(mo)料的光学稳(wen)定性有负面影(ying)响(xiang)。 4. 镀(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)过(guo)程(cheng)离子(zi)辅助(zhu)，减少(shao)应(ying)力(li)。 5. 选择合适的膜(mo)(mo)(mo)系匹(pi)配(pei)，第yi层(ceng)膜(mo)(mo)(mo)料与基片匹(pi)配(pei)。 6. 适当减小蒸发速(su)率。 7. 对氧(yang)化(hua)物膜(mo)(mo)(mo)料全部充氧(yang)反应(ying)镀(du)(du)，根据不同(tong)膜(mo)(mo)(mo)料控制氧(yang)进(jin)气量。真(zhen)空镀(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)机详细镀(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)方法。福建索佳真(zhen)空镀(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)设备有限公司

真空镀膜(mo)(mo)设备(bei)升级改造。中国(guo)台湾(wan)真空镀膜(mo)(mo)设备(bei)公(gong)司

【真(zhen)空(kong)镀(du)(du)(du)(du)膜(mo)(mo)机(ji)概述】：真(zhen)空(kong)镀(du)(du)(du)(du)膜(mo)(mo)机(ji)主要(yao)指一类(lei)需(xu)要(yao)在较(jiao)高真(zhen)空(kong)度(du)下进行的(de)镀(du)(du)(du)(du)膜(mo)(mo)，具体包(bao)括很多种(zhong)类(lei)，包(bao)括真(zhen)空(kong)电阻加热蒸发，电子抢(qiang)加热蒸发，磁(ci)控溅(jian)射，MBE分子束外延(yan)，PLD激光溅(jian)射沉积(ji)，离(li)子束溅(jian)射等很多种(zhong)。主要(yao)思路是分成蒸发和溅(jian)射两种(zhong)。真(zhen)空(kong)镀(du)(du)(du)(du)膜(mo)(mo)机(ji)构造的(de)五大系(xi)统(tong)：排气(qi)系(xi)统(tong)、控制系(xi)统(tong)、蒸镀(du)(du)(du)(du)系(xi)统(tong)、监控系(xi)统(tong)、辅助系(xi)统(tong)。真(zhen)空(kong)镀(du)(du)(du)(du)膜(mo)(mo)三(san)要(yao)素(su)：真(zhen)空(kong)度(du)、抽气(qi)时(shi)(shi)间(jian)、温度(du)；任何镀(du)(du)(du)(du)膜(mo)(mo)工艺都需(xu)要(yao)为这(zhei)三(san)个要(yao)素(su)设定(ding)目标值；因此，只有当三(san)个条件同时(shi)(shi)满(man)足时(shi)(shi)，自动化程序才会(hui)自动运行。真(zhen)空(kong)镀(du)(du)(du)(du)膜(mo)(mo)机(ji)需(xu)要(yao)做(zuo)定(ding)期定(ding)期保(bao)养，目的(de)在于：让镀(du)(du)(du)(du)膜(mo)(mo)机(ji)能长时(shi)(shi)间(jian)地正常(chang)运转；降(jiang)低(di)故障时(shi)(shi)间(jian)，避免影响产(chan)能，减少(shao)损失；提(ti)高机(ji)器(qi)(qi)精度(du)，稳定(ding)品(pin)质；加快抽气(qi)速度(du)，提(ti)升机(ji)器(qi)(qi)利用率等。中(zhong)国(guo)台湾(wan)真(zhen)空(kong)镀(du)(du)(du)(du)膜(mo)(mo)设备公(gong)司

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