极(ji)值(zhi)法求解过程计算简单(dan)，速(su)度(du)(du)(du)(du)快，同时确定薄(bo)(bo)膜(mo)的(de)(de)(de)多个光(guang)学(xue)常数(shu)及(ji)解决多值(zhi)性问(wen)题，测(ce)(ce)(ce)试范(fan)围(wei)广(guang)，但没有考虑薄(bo)(bo)膜(mo)均(jun)匀性和(he)基底色散(san)的(de)(de)(de)因素(su)，以至于精度(du)(du)(du)(du)不够高(gao)。此外，由于受(shou)曲线拟合(he)精度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)限制，该方法对膜(mo)厚(hou)(hou)(hou)的(de)(de)(de)测(ce)(ce)(ce)量范(fan)围(wei)有要(yao)求，通常用这种方法测(ce)(ce)(ce)量的(de)(de)(de)薄(bo)(bo)膜(mo)厚(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)(du)应大于200nm且小(xiao)于10μm，以确保光(guang)谱(pu)信号中的(de)(de)(de)干涉波峰数(shu)恰当。全光(guang)谱(pu)拟合(he)法是基于客观条件或基本常识来设置每个拟合(he)参数(shu)上(shang)限、下限，并(bing)为该区(qu)(qu)域(yu)的(de)(de)(de)薄(bo)(bo)膜(mo)生(sheng)成(cheng)一组或多组光(guang)学(xue)参数(shu)及(ji)厚(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)初始值(zhi)，引入适(shi)合(he)的(de)(de)(de)色散(san)模(mo)型，再根据麦克(ke)斯韦方程组的(de)(de)(de)推导(dao)。这样求得的(de)(de)(de)值(zhi)自然和(he)实际(ji)的(de)(de)(de)透过率(lv)和(he)反射率(lv)（通过光(guang)学(xue)系统直接测(ce)(ce)(ce)量的(de)(de)(de)薄(bo)(bo)膜(mo)透射率(lv)或反射率(lv)）有所不同，建立评价函数(shu)，当计算的(de)(de)(de)透过率(lv)/反射率(lv)与(yu)实际(ji)值(zhi)之间的(de)(de)(de)偏(pian)差小(xiao)时，我们就(jiu)可(ke)以认为预设的(de)(de)(de)初始值(zhi)就(jiu)是要(yao)测(ce)(ce)(ce)量的(de)(de)(de)薄(bo)(bo)膜(mo)参数(shu)。白光(guang)干涉膜(mo)厚(hou)(hou)(hou)测(ce)(ce)(ce)量技(ji)术可(ke)以实现对薄(bo)(bo)膜(mo)厚(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)在线检(jian)测(ce)(ce)(ce)和(he)自动(dong)控制。崇明区(qu)(qu)膜(mo)厚(hou)(hou)(hou)仪大概价格多少

薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)作(zuo)(zuo)为(wei)重要(yao)元件，通常(chang)使(shi)(shi)用(yong)(yong)金属、合(he)金、化(hua)合(he)物、聚合(he)物等(deng)(deng)(deng)作(zuo)(zuo)为(wei)其主要(yao)基(ji)(ji)材，品类涵盖光(guang)学(xue)膜(mo)(mo)(mo)(mo)、电(dian)(dian)(dian)隔(ge)膜(mo)(mo)(mo)(mo)、阻隔(ge)膜(mo)(mo)(mo)(mo)、保护(hu)(hu)膜(mo)(mo)(mo)(mo)、装(zhuang)饰膜(mo)(mo)(mo)(mo)等(deng)(deng)(deng)多种(zhong)功能性(xing)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)，广(guang)泛应(ying)用(yong)(yong)于现代光(guang)学(xue)、电(dian)(dian)(dian)子、医疗、能源、建材等(deng)(deng)(deng)技(ji)术领(ling)(ling)域。常(chang)用(yong)(yong)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)厚(hou)(hou)度范围从纳(na)米(mi)级(ji)到微(wei)米(mi)级(ji)不(bu)等(deng)(deng)(deng)。纳(na)米(mi)和亚微(wei)米(mi)级(ji)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)主要(yao)是基(ji)(ji)于干涉(she)效应(ying)调制(zhi)(zhi)的(de)(de)光(guang)学(xue)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)，包括各(ge)种(zhong)增(zeng)透增(zeng)反膜(mo)(mo)(mo)(mo)、偏振(zhen)膜(mo)(mo)(mo)(mo)、干涉(she)滤光(guang)片(pian)和分光(guang)膜(mo)(mo)(mo)(mo)等(deng)(deng)(deng)。部(bu)分薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)经特殊(shu)工(gong)艺处理后(hou)还具有(you)耐高温、耐腐蚀、耐磨损(sun)等(deng)(deng)(deng)特性(xing)，对(dui)通讯(xun)、显(xian)示、存储等(deng)(deng)(deng)领(ling)(ling)域内光(guang)学(xue)仪器(qi)的(de)(de)质量起决定(ding)性(xing)作(zuo)(zuo)用(yong)(yong)[1-3]，如平面显(xian)示器(qi)使(shi)(shi)用(yong)(yong)的(de)(de)ITO镀膜(mo)(mo)(mo)(mo)，太阳(yang)能电(dian)(dian)(dian)池表面的(de)(de)SiO2减反射膜(mo)(mo)(mo)(mo)等(deng)(deng)(deng)。微(wei)米(mi)级(ji)以上的(de)(de)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)以工(gong)农业(ye)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)为(wei)主，多使(shi)(shi)用(yong)(yong)聚酯材料，具有(you)易改性(xing)、可回(hui)收、适(shi)用(yong)(yong)范围广(guang)等(deng)(deng)(deng)特点。例如6微(wei)米(mi)厚(hou)(hou)度以下的(de)(de)电(dian)(dian)(dian)容器(qi)膜(mo)(mo)(mo)(mo)，20微(wei)米(mi)厚(hou)(hou)度以下的(de)(de)大部(bu)分包装(zhuang)印刷用(yong)(yong)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)，25~38微(wei)米(mi)厚(hou)(hou)的(de)(de)建筑玻璃贴膜(mo)(mo)(mo)(mo)及(ji)汽车贴膜(mo)(mo)(mo)(mo)，以及(ji)厚(hou)(hou)度为(wei)25~65微(wei)米(mi)的(de)(de)防伪(wei)标牌及(ji)拉线胶带(dai)等(deng)(deng)(deng)。微(wei)米(mi)级(ji)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)利(li)用(yong)(yong)其良好的(de)(de)延展、密封、绝缘特性(xing)，遍及(ji)食品包装(zhuang)、表面保护(hu)(hu)、磁带(dai)基(ji)(ji)材、感光(guang)储能等(deng)(deng)(deng)应(ying)用(yong)(yong)市(shi)场，加工(gong)速度快，市(shi)场占比高。宁河区膜(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)仪按需定(ding)制(zhi)(zhi)白光(guang)干涉(she)膜(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)测量技(ji)术可以对(dui)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)各(ge)项(xiang)光(guang)学(xue)参数进行联合(he)测量和分析。

根据以(yi)(yi)上分(fen)析(xi)可知，白(bai)光(guang)干(gan)涉时域解(jie)调(diao)(diao)方案的(de)(de)(de)(de)(de)(de)优点(dian)是(shi)：①能够实现(xian)测(ce)量(liang)；②抗(kang)干(gan)扰能力强，系统的(de)(de)(de)(de)(de)(de)分(fen)辨(bian)率(lv)与光(guang)源输出功率(lv)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)波(bo)动，光(guang)源的(de)(de)(de)(de)(de)(de)波(bo)长漂(piao)移(yi)以(yi)(yi)及外(wai)界(jie)环境(jing)对光(guang)纤(xian)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)扰动等因素无关；③测(ce)量(liang)精(jing)度(du)与零级干(gan)涉条纹的(de)(de)(de)(de)(de)(de)确定(ding)精(jing)度(du)以(yi)(yi)及反射镜(jing)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)精(jing)度(du)有关；④结(jie)构简单，成本较低。但是(shi)，时域解(jie)调(diao)(diao)方法需要借助扫(sao)(sao)(sao)描(miao)部件移(yi)动干(gan)涉仪一端(duan)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)反射镜(jing)来进行相(xiang)位(wei)补偿，所以(yi)(yi)扫(sao)(sao)(sao)描(miao)装置(zhi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)分(fen)辨(bian)率(lv)将影响(xiang)系统的(de)(de)(de)(de)(de)(de)精(jing)度(du)。采(cai)用这种解(jie)调(diao)(diao)方案的(de)(de)(de)(de)(de)(de)测(ce)量(liang)分(fen)辨(bian)率(lv)一般是(shi)几个微(wei)米，达到(dao)亚微(wei)米的(de)(de)(de)(de)(de)(de)分(fen)辨(bian)率(lv)，主要受(shou)机械扫(sao)(sao)(sao)描(miao)部件的(de)(de)(de)(de)(de)(de)分(fen)辨(bian)率(lv)和稳定(ding)性限制。文献(xian)[46]所报道的(de)(de)(de)(de)(de)(de)位(wei)移(yi)扫(sao)(sao)(sao)描(miao)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)分(fen)辨(bian)率(lv)可以(yi)(yi)达到(dao)0.54μm。当所测(ce)光(guang)程(cheng)差(cha)较小(xiao)时，F-P腔前后表面(mian)干(gan)涉峰(feng)值相(xiang)距很近(jin)，难以(yi)(yi)区分(fen)，此时时域解(jie)调(diao)(diao)方案的(de)(de)(de)(de)(de)(de)应用受(shou)到(dao)限制。

在纳米量(liang)(liang)(liang)(liang)级(ji)薄(bo)(bo)膜的(de)(de)(de)各(ge)项(xiang)相关(guan)参(can)数(shu)中(zhong)，薄(bo)(bo)膜材料的(de)(de)(de)厚(hou)(hou)度(du)是薄(bo)(bo)膜设计(ji)和制备(bei)过程中(zhong)的(de)(de)(de)重要参(can)数(shu)，是决定薄(bo)(bo)膜性质(zhi)和性能(neng)的(de)(de)(de)基本(ben)参(can)量(liang)(liang)(liang)(liang)之一(yi)，它对(dui)(dui)(dui)于(yu)薄(bo)(bo)膜的(de)(de)(de)光学、力学和电磁(ci)性能(neng)等(deng)都有(you)重要的(de)(de)(de)影响[3]。但是由(you)于(yu)纳米量(liang)(liang)(liang)(liang)级(ji)薄(bo)(bo)膜的(de)(de)(de)极小尺(chi)寸及其(qi)突(tu)出的(de)(de)(de)表面(mian)效应，使(shi)得对(dui)(dui)(dui)其(qi)厚(hou)(hou)度(du)的(de)(de)(de)准确测(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)变得困难。经过众多科研技(ji)(ji)术人员(yuan)的(de)(de)(de)探(tan)索和研究(jiu)，新的(de)(de)(de)薄(bo)(bo)膜厚(hou)(hou)度(du)测(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)理(li)(li)论和测(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)技(ji)(ji)术不(bu)(bu)断涌现(xian)，测(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)方法实(shi)(shi)现(xian)了从手(shou)动(dong)到自(zi)动(dong)，有(you)损到无(wu)损测(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)。由(you)于(yu)待测(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)薄(bo)(bo)膜材料的(de)(de)(de)性质(zhi)不(bu)(bu)同，其(qi)适用的(de)(de)(de)厚(hou)(hou)度(du)测(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)方案也不(bu)(bu)尽相同。对(dui)(dui)(dui)于(yu)厚(hou)(hou)度(du)在纳米量(liang)(liang)(liang)(liang)级(ji)的(de)(de)(de)薄(bo)(bo)膜，利用光学原理(li)(li)的(de)(de)(de)测(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)技(ji)(ji)术应用。相比于(yu)其(qi)他(ta)方法，光学测(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)方法因为(wei)(wei)具有(you)精(jing)度(du)高，速度(du)快，无(wu)损测(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)等(deng)优势(shi)而成为(wei)(wei)主要的(de)(de)(de)检(jian)测(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)手(shou)段。其(qi)中(zhong)具有(you)代表性的(de)(de)(de)测(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)方法有(you)椭(tuo)圆偏振法，干(gan)涉(she)法，光谱法，棱镜耦合法等(deng)。白光干(gan)涉(she)膜厚(hou)(hou)测(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)技(ji)(ji)术可以通(tong)过对(dui)(dui)(dui)干(gan)涉(she)曲线的(de)(de)(de)分析(xi)实(shi)(shi)现(xian)对(dui)(dui)(dui)薄(bo)(bo)膜的(de)(de)(de)光学参(can)数(shu)和厚(hou)(hou)度(du)分布的(de)(de)(de)联合测(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)和分析(xi)。

论文(wen)主要以半(ban)导(dao)体(ti)(ti)锗和(he)贵金(jin)属金(jin)两种(zhong)材料(liao)为对(dui)象(xiang)，研(yan)究了(le)白(bai)光干涉(she)法(fa)(fa)、表面等(deng)离子(zi)体(ti)(ti)共振(zhen)法(fa)(fa)和(he)外差干涉(she)法(fa)(fa)实现纳(na)米(mi)级薄(bo)膜(mo)厚(hou)度准确测(ce)(ce)量(liang)的(de)(de)(de)可(ke)行性(xing)。由于不(bu)同材料(liao)薄(bo)膜(mo)的(de)(de)(de)特性(xing)不(bu)同，所适用(yong)的(de)(de)(de)测(ce)(ce)量(liang)方法(fa)(fa)也不(bu)同。半(ban)导(dao)体(ti)(ti)锗膜(mo)具有(you)折(zhe)(zhe)射率(lv)高(gao)，在(zai)通信波(bo)段（1550nm附近(jin)）不(bu)透明的(de)(de)(de)特点，选(xuan)择采(cai)用(yong)白(bai)光干涉(she)的(de)(de)(de)测(ce)(ce)量(liang)方法(fa)(fa)；而厚(hou)度更(geng)薄(bo)的(de)(de)(de)金(jin)膜(mo)的(de)(de)(de)折(zhe)(zhe)射率(lv)为复数(shu)，且能激发明显的(de)(de)(de)表面等(deng)离子(zi)体(ti)(ti)效(xiao)应，因而可(ke)借助基(ji)于表面等(deng)离子(zi)体(ti)(ti)共振(zhen)的(de)(de)(de)测(ce)(ce)量(liang)方法(fa)(fa)；为了(le)进(jin)一(yi)步改善(shan)测(ce)(ce)量(liang)的(de)(de)(de)精度，论文(wen)还(hai)研(yan)究了(le)外差干涉(she)测(ce)(ce)量(liang)法(fa)(fa)，通过引入高(gao)精度的(de)(de)(de)相位(wei)解调手段，检测(ce)(ce)P光与S光之间的(de)(de)(de)相位(wei)差提(ti)升厚(hou)度测(ce)(ce)量(liang)的(de)(de)(de)精度。白(bai)光干涉(she)膜(mo)厚(hou)测(ce)(ce)量(liang)技术可(ke)以应用(yong)于电子(zi)显示器中的(de)(de)(de)薄(bo)膜(mo)厚(hou)度测(ce)(ce)量(liang)。衡阳膜(mo)厚(hou)仪性(xing)价(jia)比高(gao)企业

白光(guang)干涉(she)膜(mo)厚测量技术的应用涵盖(gai)了材料(liao)科学、光(guang)学制造、电子工业等多(duo)个领域。崇明区膜(mo)厚仪(yi)大概价格多(duo)少

光(guang)(guang)(guang)学(xue)测(ce)(ce)(ce)厚(hou)方(fang)法(fa)(fa)(fa)集光(guang)(guang)(guang)学(xue)、机械、电子、计算机图(tu)像处(chu)理技术为(wei)(wei)一(yi)体，以其(qi)光(guang)(guang)(guang)波长为(wei)(wei)测(ce)(ce)(ce)量(liang)基准，从原理上(shang)保证(zheng)了(le)纳米级(ji)的测(ce)(ce)(ce)量(liang)精度(du)。同时，光(guang)(guang)(guang)学(xue)测(ce)(ce)(ce)厚(hou)作为(wei)(wei)非(fei)接触式(shi)的测(ce)(ce)(ce)量(liang)方(fang)法(fa)(fa)(fa)，被广(guang)泛应用于精密元件表(biao)面形(xing)貌及厚(hou)度(du)的无(wu)损测(ce)(ce)(ce)量(liang)。其(qi)中，薄膜厚(hou)度(du)光(guang)(guang)(guang)学(xue)测(ce)(ce)(ce)量(liang)方(fang)法(fa)(fa)(fa)按光(guang)(guang)(guang)吸(xi)收(shou)、透反(fan)射、偏振(zhen)和(he)干(gan)涉等光(guang)(guang)(guang)学(xue)原理可分(fen)为(wei)(wei)分(fen)光(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)度(du)法(fa)(fa)(fa)、椭(tuo)圆(yuan)偏振(zhen)法(fa)(fa)(fa)、干(gan)涉法(fa)(fa)(fa)等多(duo)种(zhong)测(ce)(ce)(ce)量(liang)方(fang)法(fa)(fa)(fa)。不(bu)同的测(ce)(ce)(ce)量(liang)方(fang)法(fa)(fa)(fa)，其(qi)适用范围各有(you)(you)侧重，褒贬不(bu)一(yi)。因此结(jie)合(he)(he)多(duo)种(zhong)测(ce)(ce)(ce)量(liang)方(fang)法(fa)(fa)(fa)的多(duo)通道式(shi)复合(he)(he)测(ce)(ce)(ce)量(liang)法(fa)(fa)(fa)也有(you)(you)研究，如(ru)椭(tuo)圆(yuan)偏振(zhen)法(fa)(fa)(fa)和(he)光(guang)(guang)(guang)度(du)法(fa)(fa)(fa)结(jie)合(he)(he)的光(guang)(guang)(guang)谱(pu)椭(tuo)偏法(fa)(fa)(fa)，彩色(se)共焦光(guang)(guang)(guang)谱(pu)干(gan)涉和(he)白光(guang)(guang)(guang)显微干(gan)涉的结(jie)合(he)(he)法(fa)(fa)(fa)等。崇明区膜厚(hou)仪大(da)概价(jia)格(ge)多(duo)少

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