Nanoscribe设备(bei)专注于纳(na)米(mi)(mi)，微(wei)米(mi)(mi)和(he)中等尺寸的(de)(de)增材(cai)制(zhi)(zhi)造。早期的(de)(de)PhotonicProfessionalGT3D打(da)印(yin)机(ji)设计用(yong)(yong)于使用(yong)(yong)双(shuang)(shuang)光(guang)(guang)子(zi)聚合生产纳(na)米(mi)(mi)和(he)微(wei)结(jie)构塑料(liao)(liao)组件和(he)模(mo)具。在该过程中，激光(guang)(guang)固(gu)化(hua)部分液态(tai)光(guang)(guang)敏材(cai)料(liao)(liao)，逐(zhu)层固(gu)化(hua)。使用(yong)(yong)双(shuang)(shuang)光(guang)(guang)子(zi)聚合，分辨率可低至200纳(na)米(mi)(mi)或高达几毫米(mi)(mi)。另一方面，GT2现在可以(yi)在短时(shi)间(jian)内在高达100×100mm2的(de)(de)打(da)印(yin)区域上生产具有(you)亚微(wei)米(mi)(mi)细节的(de)(de)物体，通常为160纳(na)米(mi)(mi)至毫米(mi)(mi)范围。此外，使用(yong)(yong)GT2，用(yong)(yong)户可以(yi)选择针对其应用(yong)(yong)定制(zhi)(zhi)的(de)(de)多组物镜，基板，材(cai)料(liao)(liao)和(he)自动(dong)化(hua)流程。更多增材(cai)制(zhi)(zhi)造的(de)(de)信(xin)息，请咨询Nanoscribe在中国的(de)(de)子(zi)公司纳(na)糯三维科技（上海）有(you)限公司。工业级增材(cai)制(zhi)(zhi)造设备(bei)

Nanoscribe的(de)(de)(de)(de)双光(guang)(guang)子聚合(he)(he)技(ji)术具有极高(gao)(gao)(gao)设计(ji)自由度(du)和(he)(he)超(chao)高(gao)(gao)(gao)精度(du)的(de)(de)(de)(de)特点，结合(he)(he)具备生(sheng)物(wu)兼容特点的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)敏树脂(zhi)和(he)(he)生(sheng)物(wu)材料(liao)，开(kai)发并制(zhi)作真正意义上的(de)(de)(de)(de)高(gao)(gao)(gao)精度(du)3D微(wei)纳结构(gou)，适用(yong)于生(sheng)命(ming)科(ke)学(xue)领(ling)域的(de)(de)(de)(de)应(ying)用(yong)，如设计(ji)和(he)(he)定制(zhi)微(wei)型(xing)生(sheng)物(wu)医学(xue)设备的(de)(de)(de)(de)原型(xing)制(zhi)作。布鲁塞尔自由大学(xue)的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)子学(xue)研究小组（B-PHOT）的(de)(de)(de)(de)科(ke)学(xue)家(jia)们正在通(tong)过(guo)使(shi)用(yong)Nanoscribe双光(guang)(guang)子聚合(he)(he)技(ji)术（2PP）将光(guang)(guang)波导漏(lou)斗(dou)3D打(da)印到光(guang)(guang)纤末端上来(lai)攻(gong)克(ke)将具有不同模(mo)场(chang)几何形状(zhuang)的(de)(de)(de)(de)两个元件(jian)之间的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)束进(jin)行(xing)高(gao)(gao)(gao)效和(he)(he)稳(wen)健耦合(he)(he)这个难题。这些锥(zhui)形光(guang)(guang)束漏(lou)斗(dou)可调整SMF的(de)(de)(de)(de)模(mo)式场(chang)，以匹(pi)配光(guang)(guang)子芯(xin)片上光(guang)(guang)波导模(mo)式场(chang)。Nanoscribe的(de)(de)(de)(de)2PP技(ji)术将可调整模(mo)场(chang)的(de)(de)(de)(de)锥(zhui)形体作为(wei)阶(jie)跃(yue)折射率光(guang)(guang)波导光(guang)(guang)束。重(zhong)庆(qing)微(wei)流道增材制(zhi)造(zao)三(san)维微(wei)纳米加(jia)工系统增材制(zhi)造(zao)技(ji)术正在改(gai)变产品的(de)(de)(de)(de)设计(ji)和(he)(he)生(sheng)产方式。

Nanoscribe是一家德国双(shuang)光(guang)子(zi)(zi)增材制(zhi)(zhi)造(zao)系(xi)统制(zhi)(zhi)造(zao)商，它推(tui)出了(le)(le)一种新型机器QuantumX.新的(de)(de)系(xi)统使用(yong)双(shuang)光(guang)子(zi)(zi)光(guang)刻技(ji)术(shu)制(zhi)(zhi)造(zao)纳米(mi)(mi)尺寸(cun)(cun)的(de)(de)折射(she)和衍射(she)微光(guang)学元件，其(qi)尺寸(cun)(cun)可(ke)小至200微米(mi)(mi)。根据Nanoscribe的(de)(de)联合创始人兼CSOMichaelThiel博士(shi)的(de)(de)说法，“Beer's定律对当今的(de)(de)无(wu)掩模光(guang)刻设(she)(she)备施加(jia)了(le)(le)强大的(de)(de)限制(zhi)(zhi)。QuantumX采用(yong)双(shuang)光(guang)子(zi)(zi)灰度光(guang)刻技(ji)术(shu)，克服(fu)了(le)(le)这些限制(zhi)(zhi)，提供(gong)了(le)(le)前所未(wei)有的(de)(de)设(she)(she)计自由(you)度和易用(yong)性。我(wo)们的(de)(de)客(ke)户正在(zai)微加(jia)工的(de)(de)**前沿工作。“Nanoscribe成立(li)于卡尔斯(si)鲁厄理工学院，现在(zai)在(zai)上海(hai)设(she)(she)有子(zi)(zi)公(gong)(gong)司(si)，在(zai)美国设(she)(she)有办事处(chu)。该(gai)公(gong)(gong)司(si)在(zai)德国历史特别悠久，规模比较大的(de)(de)光(guang)学系(xi)统制(zhi)(zhi)造(zao)商之一蔡(cai)司(si)财务的(de)(de)支持(chi)。纳米(mi)(mi)标记系(xi)统基(ji)于双(shuang)光(guang)子(zi)(zi)吸收，这是一种分子(zi)(zi)被激发到(dao)更(geng)高(gao)能态的(de)(de)过程。

全新(xin)GlassPrintingExplorerSet是(shi)Nanoscribe公司(si)推(tui)出(chu)(chu)的(de)(de)(de)(de)头一(yi)(yi)个用(yong)(yong)于熔融石(shi)英玻璃微(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)纳(na)(na)结构(gou)3D微(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)纳(na)(na)加(jia)(jia)工的(de)(de)(de)(de)商用(yong)(yong)高(gao)(gao)(gao)(gao)精度(du)(du)(du)(du)(du)增材制造(zao)(zao)(zao)工艺(yi)和(he)材料(liao)。新(xin)型(xing)光刻胶GP-Silica是(shi)GlassPrintingExplorerSet的(de)(de)(de)(de)中(zhong)心(xin)内容，也是(shi)世(shi)界上只有(you)(you)(you)的(de)(de)(de)(de)一(yi)(yi)款用(yong)(yong)于熔融石(shi)英玻璃微(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)纳(na)(na)加(jia)(jia)工的(de)(de)(de)(de)光刻胶。这种(zhong)打印材料(liao)因其(qi)高(gao)(gao)(gao)(gao)光透性(xing)，出(chu)(chu)色(se)的(de)(de)(de)(de)热稳性(xing)，机(ji)械性(xing)能(neng)和(he)化(hua)学(xue)(xue)稳定(ding)性(xing)脱颖(ying)而出(chu)(chu)。这为探(tan)索(suo)生命(ming)(ming)科(ke)(ke)学(xue)(xue)，微(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)流(liu)控(kong)，微(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)纳(na)(na)光学(xue)(xue)，材料(liao)工程(cheng)和(he)其(qi)他(ta)微(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)纳(na)(na)技(ji)术(shu)领域的(de)(de)(de)(de)新(xin)应(ying)(ying)用(yong)(yong)开辟了(le)更多(duo)可(ke)能(neng)性(xing)。TheGlassPrintingExplorerSet拓宽了(le)注重耐高(gao)(gao)(gao)(gao)温特(te)性(xing)，化(hua)学(xue)(xue)和(he)机(ji)械稳定(ding)性(xing)以及(ji)光透性(xing)的(de)(de)(de)(de)高(gao)(gao)(gao)(gao)精度(du)(du)(du)(du)(du)3D微(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)纳(na)(na)加(jia)(jia)工应(ying)(ying)用(yong)(yong)。双(shuang)光子(zi)聚合(he)技(ji)术(shu)（2PP）的(de)(de)(de)(de)高(gao)(gao)(gao)(gao)精度(du)(du)(du)(du)(du)结合(he)熔融石(shi)英玻璃的(de)(de)(de)(de)出(chu)(chu)色(se)玻璃性(xing)能(neng)，推(tui)动(dong)者生命(ming)(ming)科(ke)(ke)学(xue)(xue)，微(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)流(liu)控(kong)，微(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)纳(na)(na)光学(xue)(xue)及(ji)其(qi)他(ta)领域新(xin)应(ying)(ying)用(yong)(yong)的(de)(de)(de)(de)发展和(he)探(tan)索(suo)。“尽(jin)管所(suo)需的(de)(de)(de)(de)后(hou)期(qi)热处理要求很高(gao)(gao)(gao)(gao)，GP-Silica在我(wo)们研究制造(zao)(zao)(zao)复杂的(de)(de)(de)(de)微(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)流(liu)体系(xi)统方面具(ju)有(you)(you)(you)巨大的(de)(de)(de)(de)潜(qian)力。”瑞士弗里堡大学(xue)(xue)工程(cheng)与(yu)建筑学(xue)(xue)院助(zhu)理教授兼图像打印系(xi)主任(ren)NicolasMuller博士总结道(dao)。借助(zhu)Nanoscribe双(shuang)光子(zi)聚合(he)技(ji)术(shu)特(te)殊的(de)(de)(de)(de)高(gao)(gao)(gao)(gao)设计(ji)自由度(du)(du)(du)(du)(du)和(he)高(gao)(gao)(gao)(gao)精度(du)(du)(du)(du)(du)特(te)点，您(nin)可(ke)以制作具(ju)有(you)(you)(you)微(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)米级高(gao)(gao)(gao)(gao)精度(du)(du)(du)(du)(du)机(ji)械元(yuan)件(jian)和(he)微(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)机(ji)电(dian)系(xi)统。欢迎探(tan)索(suo)Nanoscribe针(zhen)对快速原型(xing)设计(ji)和(he)制造(zao)(zao)(zao)真正(zheng)高(gao)(gao)(gao)(gao)精度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)微(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)纳(na)(na)零件(jian)的(de)(de)(de)(de)3D微(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)纳(na)(na)加(jia)(jia)工解决方案。Nanoscribe在中(zhong)国的(de)(de)(de)(de)子(zi)公司(si)纳(na)(na)糯三维科(ke)(ke)技(ji)（上海）有(you)(you)(you)限(xian)公司(si)为您(nin)浅析增材制造(zao)(zao)(zao)技(ji)术(shu)在制造(zao)(zao)(zao)业中(zhong)的(de)(de)(de)(de)特(te)点与(yu)应(ying)(ying)用(yong)(yong)。

增材(cai)(cai)(cai)制(zhi)(zhi)造(zao)（Additive Manufacturing，AM）俗(su)称3D打印，融合(he)了计算机辅(fu)助设(she)计、材(cai)(cai)(cai)料加(jia)工(gong)与成型技术、以数字模(mo)型文件(jian)为基础，通过软(ruan)件(jian)与数控系统(tong)将金属(shu)材(cai)(cai)(cai)料、非金属(shu)材(cai)(cai)(cai)料以及(ji)医用生物材(cai)(cai)(cai)料，按照挤压、烧结、熔融、光固化、喷射(she)等方式(shi)(shi)逐(zhu)层堆积，制(zhi)(zhi)造(zao)出(chu)实体(ti)物品的(de)制(zhi)(zhi)造(zao)技术。相对于传(chuan)统(tong)的(de)、对原(yuan)材(cai)(cai)(cai)料去除－切削、组装的(de)加(jia)工(gong)模(mo)式(shi)(shi)不同，是一(yi)种“自下而上”通过材(cai)(cai)(cai)料累(lei)加(jia)的(de)制(zhi)(zhi)造(zao)方法(fa)，从无到(dao)有。这(zhei)使得过去受到(dao)传(chuan)统(tong)制(zhi)(zhi)造(zao)方式(shi)(shi)的(de)约束，而无法(fa)实现的(de)复杂结构件(jian)制(zhi)(zhi)造(zao)变为可能(neng)。增材(cai)(cai)(cai)制(zhi)(zhi)造(zao)技术是一(yi)种三维(wei)实体(ti)快速自由(you)成形制(zhi)(zhi)造(zao)新技术。广东(dong)科研增材(cai)(cai)(cai)制(zhi)(zhi)造(zao)设(she)备

增(zeng)材制造可减少材料浪费和(he)能源(yuan)消耗。工业(ye)级增(zeng)材制造设备

Nanoscribe的(de)(de)Photonic Professional GT2双(shuang)光(guang)子无掩模(mo)光(guang)刻(ke)系统(tong)的(de)(de)设计多(duo)功能性配合打(da)印(yin)(yin)材料(liao)的(de)(de)多(duo)方(fang)面(mian)选(xuan)择性，可以实现微(wei)机(ji)械元件(jian)的(de)(de)制(zhi)作，例如用(yong)光(guang)敏聚(ju)合物(wu)，纳米颗粒复(fu)合物(wu)，或(huo)水(shui)凝胶打(da)印(yin)(yin)的(de)(de)远程操控可移(yi)动(dong)微(wei)型机(ji)器人，并(bing)可以选(xuan)择添加金属涂层。此外，微(wei)纳米器件(jian)也可以直接打(da)印(yin)(yin)在不同(tong)的(de)(de)基材上，甚至可以直接打(da)印(yin)(yin)于微(wei)机(ji)电系统(tong)（MEMS）。双(shuang)光(guang)子灰度光(guang)刻(ke)技术(shu)可以一步实现真正(zheng)具(ju)有(you)出色(se)形(xing)状精度的(de)(de)多(duo)级(ji)衍射光(guang)学元件(jian)（DOE），并(bing)且(qie)(qie)满足(zu)DOE纳米结构表面(mian)的(de)(de)横向(xiang)和(he)(he)纵向(xiang)分(fen)辨率达到亚(ya)微(wei)米量级(ji)。由于需要多(duo)次光(guang)刻(ke)，刻(ke)蚀和(he)(he)对(dui)准工(gong)艺(yi)，衍射光(guang)学元件(jian)（DOE）的(de)(de)传统(tong)制(zhi)造(zao)耗时(shi)长且(qie)(qie)成本高工(gong)业(ye)级(ji)增材制(zhi)造(zao)设备

本(ben)文来自(zi)海(hai)润达物联科技有限责(ze)任公司：//qfd1mz.cn/Article/09d05199939.html