在激光惯性(xing)约束核(he)聚变(bian)(bian)实验(yan)中(zhong)，靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)的(de)(de)(de)物性(xing)参(can)数(shu)(shu)和(he)几何参(can)数(shu)(shu)是靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)制备工(gong)(gong)艺改进和(he)仿真模拟核(he)聚变(bian)(bian)实验(yan)过程的(de)(de)(de)基(ji)础，因此(ci)如何对(dui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)多(duo)个参(can)数(shu)(shu)进行同(tong)(tong)步、高精度、无(wu)损(sun)的(de)(de)(de)综合(he)检测(ce)(ce)(ce)(ce)是激光惯性(xing)约束核(he)聚变(bian)(bian)实验(yan)中(zhong)的(de)(de)(de)关键问题。以(yi)上各(ge)种薄膜厚度及折射率的(de)(de)(de)测(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)方(fang)法(fa)(fa)各(ge)有利弊，但针(zhen)对(dui)本(ben)文(wen)实验(yan)，仍然无(wu)法(fa)(fa)满(man)足激光核(he)聚变(bian)(bian)技术(shu)对(dui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)参(can)数(shu)(shu)测(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)的(de)(de)(de)高要求，靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)参(can)数(shu)(shu)测(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)存在以(yi)下问题：不(bu)能对(dui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)进行破坏性(xing)切(qie)割测(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)，否则，被破坏后的(de)(de)(de)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)无(wu)法(fa)(fa)用于于下一步工(gong)(gong)艺处(chu)理或者打靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)实验(yan)；需要同(tong)(tong)时测(ce)(ce)(ce)(ce)得(de)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)的(de)(de)(de)多(duo)个参(can)数(shu)(shu)，不(bu)同(tong)(tong)参(can)数(shu)(shu)的(de)(de)(de)单独测(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)，无(wu)法(fa)(fa)提(ti)供靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)制备和(he)核(he)聚变(bian)(bian)反应过程中(zhong)发生(sheng)的(de)(de)(de)结(jie)构变(bian)(bian)化现(xian)象和(he)规(gui)律，并(bing)且效率低下、没有统一的(de)(de)(de)测(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)标准(zhun)。靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)属(shu)于自支撑球形薄膜结(jie)构，曲(qu)面应力大、难(nan)展平(ping)的(de)(de)(de)特(te)点导致靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)与基(ji)底(di)不(bu)能完(wan)全(quan)贴合(he)，在微区内可看作类薄膜结(jie)构白光干(gan)涉(she)膜厚测(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)技术(shu)可以(yi)对(dui)薄膜的(de)(de)(de)表面和(he)内部(bu)进行联合(he)测(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)和(he)分析(xi)。工(gong)(gong)厂膜厚仪推荐

论文主(zhu)要以半导(dao)体(ti)(ti)锗和贵金(jin)属金(jin)两种材(cai)料(liao)为对象，研究了白光(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)法(fa)、表(biao)面(mian)等(deng)离子体(ti)(ti)共振法(fa)和外差(cha)干(gan)(gan)涉(she)(she)法(fa)实现纳米级薄膜(mo)(mo)厚度(du)(du)准确测(ce)量的(de)可(ke)行(xing)性(xing)。由于不(bu)同(tong)(tong)材(cai)料(liao)薄膜(mo)(mo)的(de)特性(xing)不(bu)同(tong)(tong)，所适用的(de)测(ce)量方法(fa)也不(bu)同(tong)(tong)。半导(dao)体(ti)(ti)锗膜(mo)(mo)具有折射(she)率(lv)高，在通信波段（1550nm附近）不(bu)透明的(de)特点，选择采用白光(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)的(de)测(ce)量方法(fa)；而(er)厚度(du)(du)更薄的(de)金(jin)膜(mo)(mo)的(de)折射(she)率(lv)为复数，且能激发的(de)表(biao)面(mian)等(deng)离子体(ti)(ti)效(xiao)应，因而(er)可(ke)借助基于表(biao)面(mian)等(deng)离子体(ti)(ti)共振的(de)测(ce)量方法(fa)；为了进(jin)一步改(gai)善测(ce)量的(de)精度(du)(du)，论文还研究了外差(cha)干(gan)(gan)涉(she)(she)测(ce)量法(fa)，通过引入高精度(du)(du)的(de)相位解调手(shou)段，检测(ce)P光(guang)与S光(guang)之间的(de)相位差(cha)提(ti)升厚度(du)(du)测(ce)量的(de)精度(du)(du)。推荐(jian)膜(mo)(mo)厚仪源(yuan)头直供厂家白光(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)膜(mo)(mo)厚测(ce)量技(ji)术可(ke)以应用于材(cai)料(liao)科学中的(de)薄膜(mo)(mo)微结构分析。

针对(dui)微米级(ji)工业(ye)薄膜(mo)厚(hou)(hou)度(du)(du)(du)(du)测(ce)(ce)量(liang)，研(yan)究(jiu)了基于(yu)(yu)宽光(guang)(guang)谱(pu)(pu)干(gan)(gan)(gan)涉(she)的(de)(de)反射式法测(ce)(ce)量(liang)方法。根据(ju)薄膜(mo)干(gan)(gan)(gan)涉(she)及光(guang)(guang)谱(pu)(pu)共聚焦(jiao)原(yuan)理，综合考虑成(cheng)本、稳定(ding)性(xing)(xing)、体积等因素(su)要求(qiu)，研(yan)制了满足(zu)工业(ye)应用的(de)(de)小型(xing)薄膜(mo)厚(hou)(hou)度(du)(du)(du)(du)测(ce)(ce)量(liang)系(xi)(xi)统。根据(ju)波长分辨下的(de)(de)薄膜(mo)反射干(gan)(gan)(gan)涉(she)光(guang)(guang)谱(pu)(pu)模(mo)型(xing)，结合经典模(mo)态分解和非均(jun)匀傅(fu)里叶变换思想，提出了一种(zhong)基于(yu)(yu)相位功率谱(pu)(pu)分析的(de)(de)膜(mo)厚(hou)(hou)解算算法，能(neng)有效利用全(quan)光(guang)(guang)谱(pu)(pu)数据(ju)准确(que)(que)提取相位变化，对(dui)由环境噪声带来的(de)(de)假(jia)频(pin)干(gan)(gan)(gan)扰(rao)，具有很(hen)好的(de)(de)抗干(gan)(gan)(gan)扰(rao)性(xing)(xing)。通过(guo)对(dui)PVC标准厚(hou)(hou)度(du)(du)(du)(du)片(pian)，PCB板(ban)芯片(pian)膜(mo)层及锗基SiO2膜(mo)层的(de)(de)测(ce)(ce)量(liang)实验对(dui)系(xi)(xi)统性(xing)(xing)能(neng)进行了验证(zheng)，结果表明(ming)测(ce)(ce)厚(hou)(hou)系(xi)(xi)统具有1~75μm厚(hou)(hou)度(du)(du)(du)(du)的(de)(de)测(ce)(ce)量(liang)量(liang)程，μm.的(de)(de)测(ce)(ce)量(liang)不(bu)确(que)(que)定(ding)度(du)(du)(du)(du)。由于(yu)(yu)无需对(dui)焦(jiao)，可在10ms内完(wan)成(cheng)单(dan)次测(ce)(ce)量(liang)，满足(zu)工业(ye)级(ji)测(ce)(ce)量(liang)高效便捷的(de)(de)应用要求(qiu)。

光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)具(ju)(ju)有(you)传(chuan)播的(de)(de)特(te)性(xing)，不同波(bo)(bo)列在相(xiang)(xiang)(xiang)遇(yu)的(de)(de)区(qu)域(yu)，振动将(jiang)相(xiang)(xiang)(xiang)互叠加，是各(ge)列光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)波(bo)(bo)独自在该(gai)(gai)点所引起的(de)(de)振动矢量(liang)和。两(liang)束光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)要(yao)发生(sheng)干(gan)(gan)涉(she)(she)，应必须满足三个(ge)(ge)相(xiang)(xiang)(xiang)干(gan)(gan)条件(jian)，即：频率(lv)一(yi)致、振动方(fang)向一(yi)致、相(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)差(cha)稳定一(yi)致。发生(sheng)干(gan)(gan)涉(she)(she)的(de)(de)两(liang)束光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)在一(yi)些(xie)地方(fang)振动加强，而在另一(yi)些(xie)地方(fang)振动减弱，产(chan)生(sheng)规则(ze)的(de)(de)明暗(an)交替变(bian)化。任(ren)何干(gan)(gan)涉(she)(she)测(ce)(ce)量(liang)都是完(wan)全建立在这(zhei)种光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)波(bo)(bo)典(dian)型特(te)性(xing)上的(de)(de)。下(xia)图分别表(biao)(biao)(biao)示干(gan)(gan)涉(she)(she)相(xiang)(xiang)(xiang)长(zhang)和干(gan)(gan)涉(she)(she)相(xiang)(xiang)(xiang)消的(de)(de)合振幅。与激光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)相(xiang)(xiang)(xiang)比，白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)的(de)(de)相(xiang)(xiang)(xiang)干(gan)(gan)长(zhang)度(du)在几微(wei)米到几十(shi)微(wei)米内，通常都很(hen)短，更为重(zhong)要(yao)的(de)(de)是，白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)产(chan)生(sheng)的(de)(de)干(gan)(gan)涉(she)(she)条纹具(ju)(ju)有(you)一(yi)个(ge)(ge)典(dian)型的(de)(de)特(te)征：即条纹有(you)一(yi)个(ge)(ge)固定不变(bian)的(de)(de)位(wei)(wei)置(zhi)，该(gai)(gai)固定位(wei)(wei)置(zhi)对(dui)应于(yu)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)为零的(de)(de)平(ping)衡(heng)位(wei)(wei)置(zhi)，并(bing)(bing)在该(gai)(gai)位(wei)(wei)置(zhi)白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)输出光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)强度(du)具(ju)(ju)有(you)最(zui)大(da)值，并(bing)(bing)通过(guo)探测(ce)(ce)该(gai)(gai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)强最(zui)大(da)值，可(ke)实(shi)现样(yang)品表(biao)(biao)(biao)面位(wei)(wei)移(yi)的(de)(de)精(jing)密(mi)测(ce)(ce)量(liang)。此(ci)(ci)外，白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)具(ju)(ju)有(you)系统抗(kang)干(gan)(gan)扰能力强、稳定性(xing)好且动态范围大(da)、结构简单(dan)，成本低廉等(deng)优点。因此(ci)(ci)，白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)垂(chui)直扫描干(gan)(gan)涉(she)(she)、白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)射(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱等(deng)基于(yu)白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)学测(ce)(ce)量(liang)技术在薄膜(mo)(mo)三维形貌测(ce)(ce)量(liang)、薄膜(mo)(mo)厚(hou)度(du)精(jing)密(mi)测(ce)(ce)量(liang)等(deng)领(ling)域(yu)得以(yi)广泛应用。白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)膜(mo)(mo)厚(hou)测(ce)(ce)量(liang)技术可(ke)以(yi)实(shi)现对(dui)薄膜(mo)(mo)表(biao)(biao)(biao)面形貌的(de)(de)测(ce)(ce)量(liang)。

在初始相位为零(ling)的(de)(de)情况下，当被测(ce)光(guang)(guang)与参考光(guang)(guang)之间(jian)(jian)的(de)(de)光(guang)(guang)程(cheng)差(cha)为零(ling)时，光(guang)(guang)强(qiang)(qiang)(qiang)度(du)(du)(du)将达到(dao)最(zui)大值。为探测(ce)两(liang)个光(guang)(guang)束之间(jian)(jian)的(de)(de)零(ling)光(guang)(guang)程(cheng)差(cha)位置(zhi)(zhi)，需要精(jing)密(mi)(mi)(mi)Z向运动(dong)(dong)台(tai)带动(dong)(dong)干(gan)(gan)涉镜头作垂直(zhi)(zhi)扫(sao)(sao)描(miao)运动(dong)(dong)或移动(dong)(dong)载物台(tai)，垂直(zhi)(zhi)扫(sao)(sao)描(miao)过(guo)程(cheng)中(zhong)，用探测(ce)器记录下干(gan)(gan)涉光(guang)(guang)强(qiang)(qiang)(qiang)，可(ke)得(de)白光(guang)(guang)干(gan)(gan)涉信(xin)号强(qiang)(qiang)(qiang)度(du)(du)(du)与Z向扫(sao)(sao)描(miao)位置(zhi)(zhi)（两(liang)光(guang)(guang)束光(guang)(guang)程(cheng)差(cha)）之间(jian)(jian)的(de)(de)变(bian)化(hua)曲线。干(gan)(gan)涉图像(xiang)序列中(zhong)某波长(zhang)处(chu)的(de)(de)白光(guang)(guang)信(xin)号强(qiang)(qiang)(qiang)度(du)(du)(du)随光(guang)(guang)程(cheng)差(cha)变(bian)化(hua)示意图，曲线中(zhong)光(guang)(guang)强(qiang)(qiang)(qiang)极(ji)大值位置(zhi)(zhi)即(ji)为零(ling)光(guang)(guang)程(cheng)差(cha)位置(zhi)(zhi)，通(tong)(tong)过(guo)零(ling)过(guo)程(cheng)差(cha)位置(zhi)(zhi)的(de)(de)精(jing)密(mi)(mi)(mi)定位，即(ji)可(ke)实(shi)现样(yang)品表面(mian)(mian)相对位移的(de)(de)精(jing)密(mi)(mi)(mi)测(ce)量(liang)；通(tong)(tong)过(guo)确定最(zui)大值对应(ying)的(de)(de)Z向位置(zhi)(zhi)可(ke)获得(de)被测(ce)样(yang)品表面(mian)(mian)的(de)(de)三维高度(du)(du)(du)。白光(guang)(guang)干(gan)(gan)涉膜厚(hou)测(ce)量(liang)技术可(ke)以实(shi)现对薄(bo)膜的(de)(de)非(fei)接触式测(ce)量(liang)。防水膜厚(hou)仪制造厂家(jia)

白光干(gan)涉膜(mo)厚(hou)测(ce)量技术可以(yi)实(shi)现对复(fu)杂薄膜(mo)结(jie)构的测(ce)量。工厂(chang)膜(mo)厚(hou)仪推荐

为了(le)分析白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)射(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)(pu)的(de)(de)(de)测(ce)(ce)量(liang)范(fan)围，开展(zhan)了(le)不同壁厚(hou)(hou)(hou)的(de)(de)(de)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)(wan)壳(qiao)层(ceng)白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)射(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)(pu)测(ce)(ce)量(liang)实验。图是不同壳(qiao)层(ceng)厚(hou)(hou)(hou)度(du)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)(wan)的(de)(de)(de)白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)射(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)(pu)测(ce)(ce)量(liang)曲线，如(ru)图所示，对(dui)于(yu)壳(qiao)层(ceng)厚(hou)(hou)(hou)度(du)30μm的(de)(de)(de)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)(wan)，其(qi)(qi)白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)射(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)(pu)各(ge)谱(pu)(pu)(pu)峰(feng)非常(chang)密集(ji)、干(gan)涉级次数(shu)值大(da)；此外，由于(yu)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)(wan)壳(qiao)层(ceng)的(de)(de)(de)吸收，壁厚(hou)(hou)(hou)较(jiao)大(da)的(de)(de)(de)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)(wan)信号(hao)强度(du)相(xiang)对(dui)较(jiao)弱。随着(zhe)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)(wan)壳(qiao)层(ceng)厚(hou)(hou)(hou)度(du)的(de)(de)(de)进一步(bu)增加，其(qi)(qi)白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)射(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)(pu)各(ge)谱(pu)(pu)(pu)峰(feng)将更加密集(ji)，难以(yi)实现(xian)(xian)对(dui)各(ge)干(gan)涉谱(pu)(pu)(pu)峰(feng)波(bo)(bo)长的(de)(de)(de)测(ce)(ce)量(liang)。为实现(xian)(xian)较(jiao)大(da)厚(hou)(hou)(hou)度(du)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)(wan)壳(qiao)层(ceng)厚(hou)(hou)(hou)度(du)的(de)(de)(de)白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)射(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)(pu)测(ce)(ce)量(liang)，需采用红外的(de)(de)(de)宽谱(pu)(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源和光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)(pu)探(tan)测(ce)(ce)器。对(dui)于(yu)壳(qiao)层(ceng)厚(hou)(hou)(hou)度(du)为μm的(de)(de)(de)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)(wan)，测(ce)(ce)量(liang)的(de)(de)(de)波(bo)(bo)峰(feng)相(xiang)对(dui)较(jiao)少(shao)，容易实现(xian)(xian)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)(wan)壳(qiao)层(ceng)白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)射(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)(pu)谱(pu)(pu)(pu)峰(feng)波(bo)(bo)长的(de)(de)(de)准确(que)测(ce)(ce)量(liang)；随着(zhe)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)(wan)壳(qiao)层(ceng)厚(hou)(hou)(hou)度(du)的(de)(de)(de)进一步(bu)减小，两(liang)干(gan)涉信号(hao)之间(jian)的(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程差差异非常(chang)小，以(yi)至于(yu)他们的(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)(pu)信号(hao)中(zhong)只有一个干(gan)涉波(bo)(bo)峰(feng)，基于(yu)峰(feng)值探(tan)测(ce)(ce)的(de)(de)(de)白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)射(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)(pu)方法难以(yi)实现(xian)(xian)其(qi)(qi)厚(hou)(hou)(hou)度(du)的(de)(de)(de)测(ce)(ce)量(liang)；为实现(xian)(xian)较(jiao)小厚(hou)(hou)(hou)度(du)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)(wan)壳(qiao)层(ceng)厚(hou)(hou)(hou)度(du)的(de)(de)(de)白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)射(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)(pu)测(ce)(ce)量(liang)，可采用紫(zi)外的(de)(de)(de)宽谱(pu)(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源和光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)(pu)探(tan)测(ce)(ce)器提升其(qi)(qi)探(tan)测(ce)(ce)厚(hou)(hou)(hou)度(du)下限。工厂(chang)膜厚(hou)(hou)(hou)仪(yi)推荐

本文来(lai)自海润达物联科技有限(xian)责任公司：//qfd1mz.cn/Article/13e07099916.html