【真空(kong)镀膜(mo)产品常见不良(liang)分(fen)析及改善对(dui)策之破边(bian)、炸(zha)(zha)裂】： 一般的(de)(de)(de)(de)(de)镀膜(mo)会(hui)对(dui)基(ji)片(pian)(pian)加热(re)，由(you)于基(ji)片(pian)(pian)是(shi)装架在金属(shu)圈(quan)(quan)、碟(die)(die)内，由(you)于镜(jing)(jing)圈(quan)(quan)或(huo)(huo)碟(die)(die)片(pian)(pian)与镜(jing)(jing)片(pian)(pian)（基(ji)片(pian)(pian)）的(de)(de)(de)(de)(de)热(re)膨(peng)胀系(xi)数不一致，冷却过程中(zhong)会(hui)造成(cheng)镜(jing)(jing)片(pian)(pian)的(de)(de)(de)(de)(de)破便或(huo)(huo)炸(zha)(zha)裂。 有些大(da)镜(jing)(jing)片(pian)(pian)，由(you)于出(chu)罩时(shi)的(de)(de)(de)(de)(de)温(wen)(wen)(wen)度较高，与室温(wen)(wen)(wen)的(de)(de)(de)(de)(de)温(wen)(wen)(wen)差(cha)较大(da)，镜(jing)(jing)片(pian)(pian)的(de)(de)(de)(de)(de)热(re)应(ying)力作用(yong)造成(cheng)镜(jing)(jing)片(pian)(pian)炸(zha)(zha)裂或(huo)(huo)破边(bian)。有些零件边(bian)缘倒(dao)边(bian)的(de)(de)(de)(de)(de)形状容易造成(cheng)卡圈(quan)(quan)而破边(bian)。 改善对(dui)策： 1. 夹(jia)具(ju)（镜(jing)(jing)圈(quan)(quan)、碟(die)(die)片(pian)(pian)）的(de)(de)(de)(de)(de)设(she)计(ji)，在尺寸(cun)配合(he)上(shang)要合(he)理，充分(fen)考(kao)虑(lv)(lv)制造误差(cha)带来的(de)(de)(de)(de)(de)影响。 2. 注意镜(jing)(jing)圈(quan)(quan)、碟(die)(die)片(pian)(pian)的(de)(de)(de)(de)(de)变(bian)形，已经变(bian)形的(de)(de)(de)(de)(de)夹(jia)具(ju)不能(neng)使用(yong)。 3. 选用(yong)合(he)适的(de)(de)(de)(de)(de)夹(jia)具(ju)才来哦（非导磁材料、不生锈、耐高温(wen)(wen)(wen)不变(bian)性），不锈钢较为(wei)(wei)理想（热(re)变(bian)形系(xi)数小），就是(shi)加工(gong)难度大(da)，价格贵(gui)。 4. 对(dui)于大(da)镜(jing)(jing)片(pian)(pian)应(ying)降低出(chu)罩时(shi)的(de)(de)(de)(de)(de)温(wen)(wen)(wen)度，减(jian)少温(wen)(wen)(wen)差(cha)，防止(zhi)炸(zha)(zha)裂。 5. 如果时(shi)镜(jing)(jing)圈(quan)(quan)，可以考(kao)虑(lv)(lv)在镜(jing)(jing)圈(quan)(quan)上(shang)开槽，作为(wei)(wei)缓冲。真空(kong)镀膜(mo)设(she)备(bei)升(sheng)级改造。山西真空(kong)镀膜(mo)设(she)备(bei)代理

【真空(kong)镀(du)(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)产(chan)品(pin)常见(jian)不良分(fen)析及改(gai)善(shan)对(dui)策(ce)之(zhi)划(hua)痕(hen)（膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)伤(shang)）】： 划(hua)痕(hen)是指膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)面内外(wai)有道子(zi)，膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)内的(de)称划(hua)痕(hen)，膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)外(wai)的(de)称膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)伤(shang)。这也(ye)是镀(du)(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)品(pin)质改(gai)善(shan)中(zhong)的(de)一个顽症，虽然(ran)很清楚产(chan)生(sheng)的(de)原因和(he)改(gai)善(shan)方法(fa)，但(dan)难以。 产(chan)生(sheng)原因： 膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)内划(hua)痕(hen)： 1. 前工程外(wai)观不良残留。 2. 各操作(zuo)过(guo)程中(zhong)的(de)作(zuo)业(ye)(ye)(ye)过(guo)水(shui)造(zao)(zao)(zao)(zao)成(cheng)镜(jing)(jing)片划(hua)痕(hen) 3. 镜(jing)(jing)片摆(bai)(bai)放(fang)太密，搬运过(guo)程中(zhong)造(zao)(zao)(zao)(zao)成(cheng)互相磕碰 4. 镜(jing)(jing)片的(de)摆(bai)(bai)放(fang)器(qi)(qi)具(ju)(ju)、包装材(cai)料(liao)造(zao)(zao)(zao)(zao)成(cheng)镜(jing)(jing)片表(biao)面擦伤(shang) 5. 超(chao)(chao)声波清洗(xi)(xi)造(zao)(zao)(zao)(zao)成(cheng)的(de)伤(shang)痕(hen) 膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)外(wai)伤(shang)痕(hen)(膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)伤(shang))： 1. 镜(jing)(jing)片的(de)摆(bai)(bai)放(fang)器(qi)(qi)具(ju)(ju)、包装材(cai)料(liao)造(zao)(zao)(zao)(zao)成(cheng)的(de)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)伤(shang)。 2. 镀(du)(du)(du)后超(chao)(chao)声波清洗(xi)(xi)造(zao)(zao)(zao)(zao)成(cheng)的(de)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)伤(shang)。 3. 各作(zuo)业(ye)(ye)(ye)过(guo)程作(zuo)业(ye)(ye)(ye)过(guo)失造(zao)(zao)(zao)(zao)成(cheng)的(de)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)伤(shang)。 改(gai)善(shan)对(dui)策(ce)： 1. 强化作(zuo)业(ye)(ye)(ye)员作(zuo)业(ye)(ye)(ye)规(gui)范(fan) 2. 订立作(zuo)业(ye)(ye)(ye)过(guo)失清单，监(jian)督作(zuo)业(ye)(ye)(ye)员避免(mian)作(zuo)业(ye)(ye)(ye)过(guo)失 3. 改(gai)善(shan)镜(jing)(jing)片摆(bai)(bai)放(fang)间(jian)隔 4. 改(gai)善(shan)镜(jing)(jing)片搬运方法(fa) 5. 改(gai)善(shan)摆(bai)(bai)放(fang)器(qi)(qi)具(ju)(ju)、包装材(cai)料(liao) 6. 改(gai)善(shan)超(chao)(chao)声波清洗(xi)(xi)工艺参数(shu) 7. 加强前工程检验和(he)镀(du)(du)(du)前检查(cha)广(guang)东真空(kong)镀(du)(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)设(she)备公司真空(kong)镀(du)(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)设(she)备常见(jian)故障及解决方法(fa)。

【真空镀(du)膜(mo)改善薄膜(mo)应力】： 1. 镀(du)后(hou)烘烤(kao)，Zui后(hou)一层膜(mo)镀(du)完后(hou)，烘烤(kao)不(bu)要马上停止，延续10分钟(zhong)“回火(huo)”。让膜(mo)层结构趋于稳定。 2. 降温时(shi)间适(shi)当延长，退(tui)火(huo)时(shi)效。减少(shao)由于真空室内外温差(cha)过(guo)(guo)大带(dai)来(lai)的(de)热应力。 3. 对高(gao)反膜(mo)、滤光(guang)(guang)膜(mo)等(deng)在蒸(zheng)镀(du)过(guo)(guo)程中，基(ji)片温度不(bu)宜过(guo)(guo)高(gao)，高(gao)温易产生热应力。并且对氧化钛、氧化钽等(deng)膜(mo)料(liao)(liao)的(de)光(guang)(guang)学稳定性有负面影响。 4. 镀(du)膜(mo)过(guo)(guo)程离子辅(fu)助(zhu)，减少(shao)应力。 5. 选(xuan)择合适(shi)的(de)膜(mo)系匹(pi)配(pei)，第yi层膜(mo)料(liao)(liao)与基(ji)片匹(pi)配(pei)。 6. 适(shi)当减小蒸(zheng)发速率(lv)。 7. 对氧化物膜(mo)料(liao)(liao)全部(bu)充氧反应镀(du)，根据不(bu)同膜(mo)料(liao)(liao)控制氧进气(qi)量。

【真空(kong)镀(du)膜(mo)(mo)改(gai)善基片与(yu)膜(mo)(mo)的结合】： 1. 加(jia)强去(qu)油去(qu)污处理，如(ru)是超声波清洗(xi)，重点考(kao)虑去(qu)油，若是手(shou)擦(ca)，考(kao)虑先用(yong)碳酸钙粉擦(ca)再(zai)清擦(ca)； 2. 加(jia)强镀(du)前(qian)烘烤； 3. 有(you)(you)条件(jian)时(shi)，机组安(an)装(zhuang)冷凝及（POLYCOLD）； 4. 提(ti)高(gao)真空(kong)度； 5. 有(you)(you)条件(jian)时(shi)，机组安(an)装(zhuang)离(li)子(zi)源； 6. 膜(mo)(mo)料的去(qu)潮； 7. 保持工作环(huan)境的干(gan)燥； 8. 对(dui)于多层(ceng)膜(mo)(mo)，在膜(mo)(mo)系设计时(shi)，就(jiu)要考(kao)虑第yi层(ceng)膜(mo)(mo)与(yu)基片的匹(pi)配； 9. 采取研磨液复新去(qu)除(chu)镜(jing)片表面(mian)的腐蚀层(ceng)； 10. 有(you)(you)时(shi)候适当降(jiang)低蒸发速(su)率对(dui)膜(mo)(mo)强度的提(ti)高(gao)有(you)(you)帮(bang)助，对(dui)提(ti)高(gao)膜(mo)(mo)表面(mian)光滑度有(you)(you)积(ji)极意义(yi)。真空(kong)镀(du)膜(mo)(mo)设备(bei)哪个牌(pai)子(zi)的好？

【真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)镀(du)膜(mo)简介】： 真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)（vacuum）是一(yi)种没(mei)有任(ren)何物质(zhi)的(de)(de)(de)(de)(de)空(kong)(kong)(kong)间(jian)状(zhuang)态，因(yin)为真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)之中没(mei)有介质(zhi)，所(suo)以像(xiang)声音这种需要介质(zhi)传(chuan)(chuan)递的(de)(de)(de)(de)(de)能量在(zai)(zai)(zai)真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)中是无(wu)法传(chuan)(chuan)播的(de)(de)(de)(de)(de)。1654年当时的(de)(de)(de)(de)(de)马德(de)堡(bao)市zhang奥&托(tuo)&格里克在(zai)(zai)(zai)今(jin)tian德(de)国雷根(gen)斯堡(bao)进(jin)行了(le)一(yi)项(xiang)(xiang)实验(yan)，从而证明了(le)真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)是存在(zai)(zai)(zai)的(de)(de)(de)(de)(de)。现在(zai)(zai)(zai)我(wo)(wo)们所(suo)说(shuo)的(de)(de)(de)(de)(de)真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)并不是指(zhi)空(kong)(kong)(kong)间(jian)内没(mei)有任(ren)何物质(zhi)，而是指(zhi)在(zai)(zai)(zai)一(yi)个(ge)既定的(de)(de)(de)(de)(de)空(kong)(kong)(kong)间(jian)内低于(yu)一(yi)个(ge)大气压(ya)的(de)(de)(de)(de)(de)气体状(zhuang)态，我(wo)(wo)们把(ba)这种稀薄的(de)(de)(de)(de)(de)状(zhuang)态称为真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)。现在(zai)(zai)(zai)的(de)(de)(de)(de)(de)真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)镀(du)膜(mo)技术(shu)是在(zai)(zai)(zai)真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)中把(ba)金(jin)属、合金(jin)进(jin)行蒸发(fa)、溅(jian)射使(shi)(shi)其(qi)沉积(ji)在(zai)(zai)(zai)目标(biao)物体上。 在(zai)(zai)(zai)当今(jin)电(dian)(dian)子(zi)行业，很多的(de)(de)(de)(de)(de)电(dian)(dian)子(zi)元器件都要使(shi)(shi)用真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)镀(du)膜(mo)工艺，虽(sui)然我(wo)(wo)国的(de)(de)(de)(de)(de)真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)镀(du)膜(mo)技术(shu)起步较晚，但发(fa)展的(de)(de)(de)(de)(de)十分迅速。真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)镀(du)膜(mo)已经成为电(dian)(dian)子(zi)元器件制造的(de)(de)(de)(de)(de)一(yi)项(xiang)(xiang)不可(ke)或缺的(de)(de)(de)(de)(de)技术(shu)。目前的(de)(de)(de)(de)(de)真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)镀(du)膜(mo)技术(shu)主要分为：真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)蒸镀(du)、磁控(kong)溅(jian)射镀(du)膜(mo)、离子(zi)镀(du)。关于(yu)真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)镀(du)膜(mo)机(ji)，你知道多少？山(shan)西真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)镀(du)膜(mo)设备(bei)代(dai)理(li)

真空(kong)镀(du)(du)膜(mo)设(she)备(bei)使用时，需要注意哪些问(wen)题?山西真空(kong)镀(du)(du)膜(mo)设(she)备(bei)代理

在真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)镀(du)(du)膜(mo)设备(bei)(bei)中需(xu)要镀(du)(du)膜(mo)的(de)(de)被(bei)成(cheng)为基(ji)片，镀(du)(du)的(de)(de)材(cai)(cai)料被(bei)成(cheng)为靶材(cai)(cai)。基(ji)片与靶材(cai)(cai)同在真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)腔中。蒸(zheng)发镀(du)(du)膜(mo)一般是加(jia)热靶材(cai)(cai)使(shi)表面组(zu)分(fen)以(yi)原(yuan)子团或(huo)离子形式被(bei)蒸(zheng)发出(chu)来，并(bing)且沉降在基(ji)片表面，通过(guo)成(cheng)膜(mo)过(guo)程(cheng)形成(cheng)薄膜(mo)。真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)镀(du)(du)膜(mo)机对于溅射(she)(she)类镀(du)(du)膜(mo)，可以(yi)简单理(li)解为利用(yong)电子或(huo)高能(neng)激光轰击靶材(cai)(cai)，并(bing)使(shi)表面组(zu)分(fen)以(yi)原(yuan)子团或(huo)离子形式被(bei)溅射(she)(she)出(chu)来，并(bing)且终(zhong)沉积在基(ji)片表面，经历(li)成(cheng)膜(mo)过(guo)程(cheng)，终(zhong)形成(cheng)薄膜(mo)。炉体可选择由(you)不锈钢(gang)(gang)、碳钢(gang)(gang)或(huo)它们(men)的(de)(de)组(zu)合制(zhi)成(cheng)的(de)(de)双(shuang)层(ceng)水(shui)冷结构(gou)。山(shan)西真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)镀(du)(du)膜(mo)设备(bei)(bei)代理(li)

本文来自(zi)海润达物联科(ke)技有限责任公司：//qfd1mz.cn/Article/18d3299949.html