对同一(yi)靶(ba)(ba)丸(wan)相同位(wei)置进行白光(guang)(guang)垂直(zhi)扫描(miao)干(gan)涉(she)，图4-3是(shi)靶(ba)(ba)丸(wan)的(de)(de)垂直(zhi)扫描(miao)干(gan)涉(she)示意(yi)图，通过(guo)控(kong)制(zhi)光(guang)(guang)学(xue)(xue)轮廓仪的(de)(de)运动机构带动干(gan)涉(she)物(wu)镜在垂直(zhi)方向(xiang)上的(de)(de)移动，从而(er)测量(liang)到光(guang)(guang)线(xian)穿(chuan)(chuan)过(guo)靶(ba)(ba)丸(wan)后(hou)反射(she)到参(can)考(kao)(kao)镜与到达基底直(zhi)接反射(she)回参(can)考(kao)(kao)镜的(de)(de)光(guang)(guang)线(xian)之间(jian)的(de)(de)光(guang)(guang)程差(cha)，显然，当一(yi)束(shu)平行光(guang)(guang)穿(chuan)(chuan)过(guo)靶(ba)(ba)丸(wan)后(hou)，偏离靶(ba)(ba)丸(wan)中(zhong)心越远的(de)(de)光(guang)(guang)线(xian)，测量(liang)到的(de)(de)有效壁厚越大，其光(guang)(guang)程差(cha)也越大，但这并不表示靶(ba)(ba)丸(wan)壳(qiao)层的(de)(de)厚度，当垂直(zhi)穿(chuan)(chuan)过(guo)靶(ba)(ba)丸(wan)中(zhong)心的(de)(de)光(guang)(guang)线(xian)测得的(de)(de)光(guang)(guang)程差(cha)才(cai)对应靶(ba)(ba)丸(wan)的(de)(de)上、下壳(qiao)层的(de)(de)厚度。白光(guang)(guang)干(gan)涉(she)膜厚测量(liang)技(ji)术可(ke)以(yi)应用于材料科学(xue)(xue)中(zhong)的(de)(de)薄膜微结构分析(xi)。顺义区膜厚仪工厂

薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)作为(wei)(wei)重(zhong)要(yao)元件，通常使用(yong)(yong)金属(shu)、合(he)金、化合(he)物(wu)、聚(ju)合(he)物(wu)等作为(wei)(wei)其主要(yao)基(ji)材(cai)(cai)，品类涵盖(gai)光(guang)学(xue)(xue)膜(mo)(mo)、电(dian)隔膜(mo)(mo)、阻(zu)隔膜(mo)(mo)、保(bao)护膜(mo)(mo)、装饰膜(mo)(mo)等多(duo)种功能性(xing)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)，广(guang)泛应(ying)(ying)用(yong)(yong)于现(xian)代光(guang)学(xue)(xue)、电(dian)子、医疗、能源、建材(cai)(cai)等技(ji)术领域(yu)。常用(yong)(yong)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)的(de)(de)厚(hou)度(du)范(fan)围(wei)从(cong)纳米(mi)(mi)(mi)级(ji)到微(wei)米(mi)(mi)(mi)级(ji)不等。纳米(mi)(mi)(mi)和亚微(wei)米(mi)(mi)(mi)级(ji)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)主要(yao)是基(ji)于干涉(she)效应(ying)(ying)调制(zhi)的(de)(de)光(guang)学(xue)(xue)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)，包括各种增透增反(fan)膜(mo)(mo)、偏(pian)振(zhen)膜(mo)(mo)、干涉(she)滤光(guang)片和分(fen)光(guang)膜(mo)(mo)等。部(bu)分(fen)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)经特(te)殊工(gong)艺处理后还(hai)具有(you)耐(nai)高(gao)温、耐(nai)腐蚀、耐(nai)磨损等特(te)性(xing)，对(dui)通讯、显示、存储等领域(yu)内光(guang)学(xue)(xue)仪器(qi)的(de)(de)质(zhi)量(liang)起决定(ding)性(xing)作用(yong)(yong)[1-3]，如平面显示器(qi)使用(yong)(yong)的(de)(de)ITO镀(du)膜(mo)(mo)，太阳能电(dian)池表(biao)面的(de)(de)SiO2减反(fan)射膜(mo)(mo)等。微(wei)米(mi)(mi)(mi)级(ji)以(yi)上的(de)(de)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)以(yi)工(gong)农业(ye)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)为(wei)(wei)主，多(duo)使用(yong)(yong)聚(ju)酯材(cai)(cai)料，具有(you)易改(gai)性(xing)、可回收、适用(yong)(yong)范(fan)围(wei)广(guang)等特(te)点。例如6微(wei)米(mi)(mi)(mi)厚(hou)度(du)以(yi)下(xia)的(de)(de)电(dian)容器(qi)膜(mo)(mo)，20微(wei)米(mi)(mi)(mi)厚(hou)度(du)以(yi)下(xia)的(de)(de)大(da)部(bu)分(fen)包装印(yin)刷用(yong)(yong)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)，25~38微(wei)米(mi)(mi)(mi)厚(hou)的(de)(de)建筑玻璃贴膜(mo)(mo)及汽车贴膜(mo)(mo)，以(yi)及厚(hou)度(du)为(wei)(wei)25~65微(wei)米(mi)(mi)(mi)的(de)(de)防伪(wei)标牌及拉线胶(jiao)带等。微(wei)米(mi)(mi)(mi)级(ji)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)利用(yong)(yong)其良好的(de)(de)延展、密封、绝(jue)缘特(te)性(xing)，遍及食品包装、表(biao)面保(bao)护、磁(ci)带基(ji)材(cai)(cai)、感光(guang)储能等应(ying)(ying)用(yong)(yong)市场，加工(gong)速度(du)快(kuai)，市场占比高(gao)。潍坊膜(mo)(mo)厚(hou)仪生产(chan)厂(chang)家哪家好白光(guang)干涉(she)膜(mo)(mo)厚(hou)测(ce)量(liang)技(ji)术可以(yi)实(shi)现(xian)对(dui)不同材(cai)(cai)料的(de)(de)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)进行(xing)测(ce)量(liang)。

光(guang)谱拟(ni)合法(fa)(fa)易于(yu)测(ce)量(liang)具有应(ying)用(yong)领(ling)域(yu)，由于(yu)使用(yong)了(le)迭(die)代算(suan)(suan)(suan)法(fa)(fa)，因此该方法(fa)(fa)的(de)(de)(de)优(you)缺(que)点(dian)在很(hen)大程度(du)上取决于(yu)所(suo)选(xuan)择的(de)(de)(de)算(suan)(suan)(suan)法(fa)(fa)。随(sui)着各种全(quan)局优(you)化(hua)算(suan)(suan)(suan)法(fa)(fa)的(de)(de)(de)引入，遗传算(suan)(suan)(suan)法(fa)(fa)和模(mo)拟(ni)退火算(suan)(suan)(suan)法(fa)(fa)等新算(suan)(suan)(suan)法(fa)(fa)被(bei)用(yong)于(yu)薄(bo)膜参数(shu)的(de)(de)(de)测(ce)量(liang)。其(qi)缺(que)点(dian)是不够实(shi)用(yong)，该方法(fa)(fa)需要(yao)一个较好(hao)的(de)(de)(de)薄(bo)膜的(de)(de)(de)光(guang)学(xue)(xue)模(mo)型(包括色散系(xi)数(shu)、吸(xi)收系(xi)数(shu)、多层膜系(xi)统)，但是在实(shi)际测(ce)试过程中(zhong)，薄(bo)膜的(de)(de)(de)色散和吸(xi)收的(de)(de)(de)公式通(tong)常(chang)不准确(que)，尤其(qi)是对(dui)于(yu)多层膜体系(xi)，建立光(guang)学(xue)(xue)模(mo)型非常(chang)困难，无法(fa)(fa)用(yong)公式准确(que)地表示出来。在实(shi)际应(ying)用(yong)中(zhong)只能使用(yong)简化(hua)模(mo)型，因此，通(tong)常(chang)全(quan)光(guang)谱拟(ni)合法(fa)(fa)不如极(ji)值法(fa)(fa)有效。另外该方法(fa)(fa)的(de)(de)(de)计(ji)算(suan)(suan)(suan)速度(du)慢也不能满足(zu)快速计(ji)算(suan)(suan)(suan)的(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)。

基于(yu)白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱单(dan)峰(feng)值(zhi)波长(zhang)(zhang)移动的(de)(de)锗膜(mo)厚(hou)度(du)测量(liang)(liang)(liang)方(fang)案(an)研(yan)究：在(zai)(zai)对(dui)比(bi)研(yan)究目(mu)前(qian)常用的(de)(de)白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)测量(liang)(liang)(liang)方(fang)案(an)的(de)(de)基础上(shang)，我们发(fa)现(xian)当两干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)束的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)(cheng)(cheng)差非(fei)常小(xiao)(xiao)(xiao)导致(zhi)其干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱只有一(yi)个干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)峰(feng)时，常用的(de)(de)基于(yu)两相邻干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)峰(feng)间距的(de)(de)解调方(fang)案(an)不再(zai)适(shi)(shi)用。为(wei)(wei)此，我们提(ti)出(chu)了适(shi)(shi)用于(yu)极小(xiao)(xiao)(xiao)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)(cheng)(cheng)差的(de)(de)基于(yu)干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱单(dan)峰(feng)值(zhi)波长(zhang)(zhang)移动的(de)(de)测量(liang)(liang)(liang)方(fang)案(an)。干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱的(de)(de)峰(feng)值(zhi)波长(zhang)(zhang)会(hui)随着光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)(cheng)(cheng)差的(de)(de)增大出(chu)现(xian)周期性的(de)(de)红移和(he)蓝移，当光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)(cheng)(cheng)差在(zai)(zai)较小(xiao)(xiao)(xiao)范围内(nei)变化(hua)时，峰(feng)值(zhi)波长(zhang)(zhang)的(de)(de)移动与光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)(cheng)(cheng)差成正(zheng)比(bi)。根(gen)据这一(yi)原理，搭建了光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)纤(xian)(xian)白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)温度(du)传(chuan)感系统对(dui)这一(yi)测量(liang)(liang)(liang)解调方(fang)案(an)进行验证，得到了光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)纤(xian)(xian)端面半导体锗薄膜(mo)的(de)(de)厚(hou)度(du)。实验结(jie)果显示锗膜(mo)的(de)(de)厚(hou)度(du)为(wei)(wei)，与台(tai)阶仪测量(liang)(liang)(liang)结(jie)果存在(zai)(zai)，这是因为(wei)(wei)薄膜(mo)表面本身并不光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)滑，台(tai)阶仪的(de)(de)测量(liang)(liang)(liang)结(jie)果只能作为(wei)(wei)参考值(zhi)。锗膜(mo)厚(hou)度(du)测量(liang)(liang)(liang)误差主(zhu)要来自光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)的(de)(de)波长(zhang)(zhang)漂移和(he)温度(du)控制误差。白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)膜(mo)厚(hou)测量(liang)(liang)(liang)技术可以应用于(yu)电子显示器中(zhong)的(de)(de)薄膜(mo)厚(hou)度(du)测量(liang)(liang)(liang)。

白光(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)的(de)(de)(de)分析方法(fa)利(li)用白光(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)感知空间(jian)位(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)置的(de)(de)(de)变化(hua)，从而得(de)到被测(ce)物(wu)体(ti)的(de)(de)(de)信息(xi)。它(ta)是(shi)在单色光(guang)相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)移(yi)干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)术(shu)的(de)(de)(de)基础上(shang)发(fa)(fa)展(zhan)而来(lai)的(de)(de)(de)。单色光(guang)相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)移(yi)干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)术(shu)利(li)用光(guang)路使(shi)(shi)参考光(guang)和(he)被测(ce)表(biao)面的(de)(de)(de)反(fan)射(she)光(guang)发(fa)(fa)生干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)，再使(shi)(shi)用相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)移(yi)的(de)(de)(de)方法(fa)调制相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)，利(li)用干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)场(chang)中光(guang)强的(de)(de)(de)变化(hua)计算出其每个(ge)数(shu)据点的(de)(de)(de)初始相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)，但是(shi)这(zhei)样得(de)到的(de)(de)(de)相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)是(shi)位(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)于（-π，+π]间(jian)，所以得(de)到的(de)(de)(de)是(shi)不连(lian)(lian)续(xu)的(de)(de)(de)相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)。因此，需要(yao)进行相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)展(zhan)开使(shi)(shi)其变为连(lian)(lian)续(xu)相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)。再利(li)用高度(du)与相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)的(de)(de)(de)信息(xi)求出被测(ce)物(wu)体(ti)的(de)(de)(de)表(biao)面形貌。单色光(guang)相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)移(yi)法(fa)具有测(ce)量速度(du)快、测(ce)量分辨力高、对背景光(guang)强不敏感等优(you)点。但是(shi)，由于单色光(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)无法(fa)确定(ding)干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)条纹的(de)(de)(de)零级位(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)置。因此，在相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)解包裹(guo)中无法(fa)得(de)到相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)差(cha)的(de)(de)(de)周期数(shu)，所以只能(neng)假(jia)定(ding)相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)(wei)差(cha)不超过一个(ge)周期，相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)当于测(ce)试表(biao)面的(de)(de)(de)相(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)(xiang)邻高度(du)不能(neng)超过四分之一波长[27]。这(zhei)就限制了其测(ce)量的(de)(de)(de)范围，使(shi)(shi)它(ta)只能(neng)测(ce)试连(lian)(lian)续(xu)结(jie)(jie)构或者光(guang)滑表(biao)面结(jie)(jie)构。该技术(shu)可以通过测(ce)量干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)曲线(xian)来(lai)计算薄膜的(de)(de)(de)厚(hou)度(du)。山西膜厚(hou)仪制造(zao)厂家(jia)

白光干(gan)涉膜厚(hou)(hou)测(ce)量(liang)技术(shu)可以在不同环(huan)境下(xia)进行测(ce)量(liang)。顺义区(qu)膜厚(hou)(hou)仪工厂

在(zai)(zai)激(ji)光惯性约(yue)束(shu)核(he)聚变(bian)(bian)(bian)实验(yan)(yan)中，靶(ba)丸(wan)(wan)的(de)(de)(de)物性参(can)(can)数和几(ji)何(he)参(can)(can)数是(shi)靶(ba)丸(wan)(wan)制(zhi)备(bei)工艺改进和仿真模(mo)拟(ni)核(he)聚变(bian)(bian)(bian)实验(yan)(yan)过(guo)程(cheng)(cheng)的(de)(de)(de)基础，因此如何(he)对(dui)靶(ba)丸(wan)(wan)多个(ge)参(can)(can)数进行同步、高(gao)精度、无损的(de)(de)(de)综合检测(ce)(ce)是(shi)激(ji)光惯性约(yue)束(shu)核(he)聚变(bian)(bian)(bian)实验(yan)(yan)中的(de)(de)(de)关键问题。以(yi)(yi)上各(ge)种薄(bo)膜厚度及折射(she)率(lv)的(de)(de)(de)测(ce)(ce)量(liang)方法(fa)各(ge)有利弊，但针对(dui)本文实验(yan)(yan)，仍然(ran)无法(fa)满足激(ji)光核(he)聚变(bian)(bian)(bian)技(ji)术对(dui)靶(ba)丸(wan)(wan)参(can)(can)数测(ce)(ce)量(liang)的(de)(de)(de)高(gao)要求，靶(ba)丸(wan)(wan)参(can)(can)数测(ce)(ce)量(liang)存在(zai)(zai)以(yi)(yi)下问题：不能对(dui)靶(ba)丸(wan)(wan)进行破(po)坏性切(qie)割测(ce)(ce)量(liang)，否(fou)则，被破(po)坏后的(de)(de)(de)靶(ba)丸(wan)(wan)无法(fa)用于于下一步工艺处理或者打靶(ba)实验(yan)(yan)；需要同时测(ce)(ce)得靶(ba)丸(wan)(wan)的(de)(de)(de)多个(ge)参(can)(can)数，不同参(can)(can)数的(de)(de)(de)单独测(ce)(ce)量(liang)，无法(fa)提供靶(ba)丸(wan)(wan)制(zhi)备(bei)和核(he)聚变(bian)(bian)(bian)反应过(guo)程(cheng)(cheng)中发生的(de)(de)(de)结(jie)构(gou)(gou)变(bian)(bian)(bian)化(hua)现象和规(gui)律，并且效(xiao)率(lv)低(di)下、没(mei)有统(tong)一的(de)(de)(de)测(ce)(ce)量(liang)标准。靶(ba)丸(wan)(wan)属于自支撑球形薄(bo)膜结(jie)构(gou)(gou)，曲面应力大、难展平(ping)的(de)(de)(de)特点导(dao)致(zhi)靶(ba)丸(wan)(wan)与基底不能完全贴合，在(zai)(zai)微(wei)区(qu)内可看作(zuo)类薄(bo)膜结(jie)构(gou)(gou)顺义区(qu)膜厚仪工厂

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